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退火对含氮氟非晶碳膜结构及光学带隙的影响

蒋爱华 肖剑荣 王德安

退火对含氮氟非晶碳膜结构及光学带隙的影响

蒋爱华, 肖剑荣, 王德安
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  • 采用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同条件下制备了含氮氟非晶碳膜,着重考察了退火温度对膜结构和光学带隙的影响. 研究发现:在350℃时,膜仍很稳定,当退火温度达到400℃时,其内各化学键的相对含量发生很大的改变. 膜的光学带隙随着退火温度的升高而增大,红外和拉曼光谱分析显示其原因是:退火使得膜内F的相对浓度降低,sp2相对含量升高,导致σ-σ*带边态密度降低.
    • 基金项目: 湖南教育厅科研项目(批准号:07C424)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2007-12-04
  • 修回日期:  2008-01-24
  • 刊出日期:  2008-09-20

退火对含氮氟非晶碳膜结构及光学带隙的影响

  • 1. 桂林工学院数理系,桂林 541004
    基金项目: 

    湖南教育厅科研项目(批准号:07C424)资助的课题.

摘要: 采用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同条件下制备了含氮氟非晶碳膜,着重考察了退火温度对膜结构和光学带隙的影响. 研究发现:在350℃时,膜仍很稳定,当退火温度达到400℃时,其内各化学键的相对含量发生很大的改变. 膜的光学带隙随着退火温度的升高而增大,红外和拉曼光谱分析显示其原因是:退火使得膜内F的相对浓度降低,sp2相对含量升高,导致σ-σ*带边态密度降低.

English Abstract

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