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真空退火对氟化非晶碳薄膜结构的影响

黄峰 程珊华 宁兆元 杨慎东 叶超

真空退火对氟化非晶碳薄膜结构的影响

黄峰, 程珊华, 宁兆元, 杨慎东, 叶超
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出版历程
  • 收稿日期:  2001-07-23
  • 修回日期:  2001-10-29
  • 刊出日期:  2002-06-20

真空退火对氟化非晶碳薄膜结构的影响

  • 1. 苏州大学物理系,苏州215006
    基金项目: 

    国家自然科学基金 (批准号 :10 175 0 48)资助的课题

摘要: 在苯(C6H6)和四氟化碳(CF4)混合气体中,用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术(ECRCVD)在不同功率下制备了氟化非晶碳膜(aC:F),为了检测膜的热稳定性对其进行了真空退火处理,测量了退火前后膜厚的变化率,并用傅里叶变换红外吸收光谱(FTIR)研究了其结构的变化.结果表明,膜厚变化率与沉积功率有关;400℃退火后低功率下沉积的膜的结构变化显著,高功率下沉积的膜则呈现了较好的热稳定性.

English Abstract

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