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利用微波ECR磁控反应溅射法在室温下制备无氢SiNx薄膜.通过傅里叶红外光谱 、X射线电子谱、膜厚仪、纳米硬度仪、原子力显微镜等分析手段,分析了N2流 量、Si靶溅射功率等实验参数对SiNx薄膜结构、化学配比以及机械性质的影响. 结果表明,SiNx薄膜中Si-N结构、化学配比及机械性质与等离子体中的Si元素 含量关系密切,随着N2流量的增加或者Si靶溅射功率的降低,等离子体中的Si 元素含量降低,SiNx薄膜结构、化学配比及硬度发生变化,红外光谱发生偏移 ,硬度下降,沉积速率降低.
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关键词:
- SiNx /
- 磁控溅射 /
- 傅里叶变换红外吸收光谱 /
- X射线电子谱
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