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沉积参数对SiNx薄膜结构及阻透性能的影响

丁万昱 王华林 张俊计 柴卫平 苗壮

沉积参数对SiNx薄膜结构及阻透性能的影响

丁万昱, 王华林, 张俊计, 柴卫平, 苗壮
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-06-17
  • 修回日期:  2008-08-04
  • 刊出日期:  2009-01-20

沉积参数对SiNx薄膜结构及阻透性能的影响

  • 1. (1)光电材料与器件研究所,大连交通大学,大连 116028;材料科学与工程学院,大连交通大学,大连 116028; (2)国家包装产品质量监督检验中心,大连 116028
    基金项目: 

    大连市科技计划项目(批准号:060907)资助的课题.

摘要: 利用直流脉冲磁控溅射法在室温下制备无氢SiNx薄膜.通过傅里叶变换红外光谱、台阶仪、紫外—可见分光光度计、接触角测量仪、透湿测试仪等表征技术,分析了N2流量、Si靶溅射功率等实验参数对SiNx薄膜成分、结构、及阻透性能、透光性能、接触角等性能的影响.研究结果表明,Si靶溅射功率固定时,在低N2流量条件下,或N2流量固定时,在高Si靶溅射功率条件下,制备的SiN

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