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磁控溅射法合成纳米β-FeSi2/a-Si多层结构

胡 冰 李晓娜 董 闯 姜 辛

磁控溅射法合成纳米β-FeSi2/a-Si多层结构

胡 冰, 李晓娜, 董 闯, 姜 辛
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出版历程
  • 收稿日期:  2006-12-02
  • 修回日期:  2007-05-15
  • 刊出日期:  2007-12-20

磁控溅射法合成纳米β-FeSi2/a-Si多层结构

  • 1. 
    基金项目: 

    大连市科学技术基金(批准号:2005J22JH043) 资助的课题.

摘要: β-FeSi2作为一种环境友好的半导体材料,颗粒化及非晶化正在成为提高其应用性能和改善薄膜质量、膜基界面失配度的有效途径.利用射频磁控溅射法在单晶Si基体上沉积Fe/Si多层膜,合成纳米β-FeSi2/Si多层结构.通过透射电子显微镜、高分辨电子显微术等分析手段,研究了多层结构和制备工艺之间的相互关系.研究结果表明,采用磁控溅射Fe/Si多层膜的方法,不需要退火就可以直接沉积得到β-FeSi2相小颗粒.β-FeSi2相

English Abstract

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