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微分析中电离截面公式与实验的比较

唐涛 吴自勤 张庶元

微分析中电离截面公式与实验的比较

唐涛, 吴自勤, 张庶元
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出版历程
  • 收稿日期:  1990-07-16
  • 刊出日期:  2005-07-01

微分析中电离截面公式与实验的比较

  • 1. (1)中国科学技术大学基础物理中心,合肥,230026; (2)中国科学技术大学结构分析开放研究实验室,合肥,230026

摘要: 利用分析电子显微镜在75—200kV电压下测量一系列纯元素的M和L线标识X射线强度比I(M)/I(L)。和以前测定的强度比汇集在一起,把所有实验数据与由8个电离截面公式得出的计算值作了比较,比较前对强度比进行约化以消除不确定的参量只留下截面的电压依赖关系。这些公式对I(L)/I(K)可分为四组,对I(M)/I(L)分为三组。只有一组公式(包括Fabre de la Ripelle的公式和Schreiber,Wims的公式)与所有实验数据符合得较好。

English Abstract

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