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直流磁控溅射YBCO非晶薄膜的卢瑟福背散射研究

江伟林 王瑞兰 朱沛然 王长安 徐天冰 李宏成 翟永亮 任孟眉 周俊思

直流磁控溅射YBCO非晶薄膜的卢瑟福背散射研究

江伟林, 王瑞兰, 朱沛然, 王长安, 徐天冰, 李宏成, 翟永亮, 任孟眉, 周俊思
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出版历程
  • 收稿日期:  1992-10-20
  • 刊出日期:  1994-04-20

直流磁控溅射YBCO非晶薄膜的卢瑟福背散射研究

  • 1. 中国科学院物理研究所,北京100080

摘要: 利用直流磁控溅射(D.C.Magnetron Sputtering)法,选取总气压为80Pa,沉积时间为60min,溅射靶尺寸为φ80,在磁场强度、靶与基片之间的距离及Ar/O2比等参数变化的情况下,制备了四组YBCO/Al2O3非晶薄膜样品。用MeV Li卢瑟福背散射(RBS)分析技术,测量了各块样品中Ba和Cu相对Y的含量和薄膜厚度随基片的横向分布。分析结果表明:在不同的沉积条件下,薄膜中各点的Ba和Cu相对浓度差别较大,薄膜厚度分布也

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