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CN薄膜结构特性的研究

冯嘉猷 龙春平 张芳伟 郑毅 范玉殿

CN薄膜结构特性的研究

冯嘉猷, 龙春平, 张芳伟, 郑毅, 范玉殿
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出版历程
  • 收稿日期:  1994-12-09
  • 刊出日期:  1996-06-20

CN薄膜结构特性的研究

  • 1. 清华大学材料科学与工程系,北京100084
    基金项目: 

    国家自然科学基金资助的课题

摘要: 利用离化团束(ICB)方法在Si(111)衬底上生长了CN薄膜。X光衍射(XRD)分析表明薄膜呈β-C3N4晶态结构,X射线光电子能谱(XPS)测定薄膜含N量为20%,并且观察到C1s和N1s芯能级谱中存在双峰。红外吸收光谱呈现C—N和C≡N的吸收峰。高能反射式电子衍射(RHEED)也证实薄膜中存在晶态物质。薄膜的努氏显微硬度值达到6200kgf·mm-2。

English Abstract

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