| [1] |
贺玮迪, 张培源, 刘翔, 田雪芬, 付馨葛, 邓爱红. 用正电子湮没技术研究H/He中性束辐照钨钾合金中缺陷的演化. 物理学报,
2021, 70(16): 167803.
doi: 10.7498/aps.70.20210438
|
| [2] |
张培源, 邓爱红, 田雪芬, 唐军. 利用正电子湮没技术研究钾掺杂钨合金中的缺陷. 物理学报,
2020, 69(9): 096103.
doi: 10.7498/aps.69.20191792
|
| [3] |
李锦锦, 李多生, 洪跃, 邹伟, 何俊杰. 石墨烯在Al2O3(0001)表面生长的模拟研究. 物理学报,
2017, 66(21): 217101.
doi: 10.7498/aps.66.217101
|
| [4] |
张丽娟, 张传超, 廖威, 刘建党, 谷冰川, 袁晓东, 叶邦角. 氘化对KH2PO4晶体微观缺陷影响的正电子湮没研究. 物理学报,
2015, 64(9): 097802.
doi: 10.7498/aps.64.097802
|
| [5] |
许红霞, 郝颖萍, 韩荣典, 翁惠民, 杜淮江, 叶邦角. 纳米Fe3 O4 颗粒的正电子湮没谱学研究. 物理学报,
2011, 60(6): 067803.
doi: 10.7498/aps.60.067803
|
| [6] |
刘晓旭, 殷景华, 程伟东, 卜文斌, 范勇, 吴忠华. 利用小角X射线散射技术研究组分对聚酰亚胺/Al2O3杂化薄膜界面特性与分形特征的影响. 物理学报,
2011, 60(5): 056101.
doi: 10.7498/aps.60.056101
|
| [7] |
张宏俊, 王 栋, 陈志权, 王少阶, 徐友明, 罗锡辉. MoO3/Al2O3催化剂中Mo分散的正电子研究. 物理学报,
2008, 57(11): 7333-7337.
doi: 10.7498/aps.57.7333
|
| [8] |
杨 春, 李言荣, 薛卫东, 陶佰万, 刘兴钊, 张 鹰, 黄 玮. α-Al2O3(0001)基片表面结构与能量研究. 物理学报,
2003, 52(9): 2268-2273.
doi: 10.7498/aps.52.2268
|
| [9] |
邹柳娟, 夏 风, 邹道文, 翁惠民, 黄千峰, 周先意, 韩荣典. 第2系列ZrO2(Y2O3)薄膜的慢正电子研究. 物理学报,
2000, 49(7): 1352-1355.
doi: 10.7498/aps.49.1352
|
| [10] |
马莉, 陈志权, 王少阶, 彭治林, 罗锡辉. 用正电子湮没技术研究USY沸石的“二次孔”结构. 物理学报,
1997, 46(11): 2267-2273.
doi: 10.7498/aps.46.2267
|
| [11] |
吴奕初, 田中卓, 常香荣, 肖纪美. 应用正电子湮没技术研究多晶形变镍中氢和缺陷的互作用. 物理学报,
1991, 40(11): 1883-1887.
doi: 10.7498/aps.40.1883
|
| [12] |
王志超, 滕敏康, 刘吟春. 用正电子湮没技术研究a-Si:H/a-SiNx:H多层膜中的界面缺陷. 物理学报,
1991, 40(12): 1973-1979.
doi: 10.7498/aps.40.1973
|
| [13] |
. 用正电子湮没寿命谱研究凝聚态甲烷的温度关系. 物理学报,
1990, 39(7): 106-111.
doi: 10.7498/aps.39.106
|
| [14] |
刘荣川, 夏元复, H. ENGELMANN, 景剑峰, U. GONSER, N. KRAMER, 蒋华莉. Eu2O3在η-Al2O3和SiO2上固体-固体表面相互作用的研究. 物理学报,
1988, 37(2): 341-346.
doi: 10.7498/aps.37.341
|
| [15] |
王瑞兰, 李宏成, 管惟炎. 用Re/Al2O3/Al隧道结的电子隧道测定重掺杂Re膜的超导能隙. 物理学报,
1987, 36(12): 1643-1644.
doi: 10.7498/aps.36.1643
|
| [16] |
王蕴玉, 潘孝良, 雷振玺, 杨巨华. 用正电子湮没方法研究快离子导体. 物理学报,
1987, 36(4): 514-517.
doi: 10.7498/aps.36.514
|
| [17] |
苏昉, 蒋惠林. 非晶锂离子导体B2O3-0.7Li2O—0.7LiCl-xAl2O3晶化过程的正电子湮没一维角关联辐射研究. 物理学报,
1986, 35(10): 1306-1314.
doi: 10.7498/aps.35.1306
|
| [18] |
苏昉, 郁伟中, 戴道扬, 赵宗源. 非晶离子导体B2O3-0.7Li2O-0.7LiCl-xAl2O3晶化过程的正电子湮没寿命谱和扫描电子显微镜研究. 物理学报,
1985, 34(5): 622-627.
doi: 10.7498/aps.34.622
|
| [19] |
王淑英, 季国坤, 侯耀永, 李理. 用正电子湮没技术研究纯镍多晶体疲劳过程中的晶体缺陷. 物理学报,
1985, 34(12): 1627-1633.
doi: 10.7498/aps.34.1627
|
| [20] |
曹玔, 王蕴玉, 熊兴民, 熊良钺, 姜健. 用正电子湮没技术研究形变铁的恢复. 物理学报,
1982, 31(1): 126-131.
doi: 10.7498/aps.31.126
|
下载:
