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Ge-As-S体系玻璃中光学二次谐波发生及其极化机理分析

刘启明 赵修建 干福熹

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Ge-As-S体系玻璃中光学二次谐波发生及其极化机理分析

刘启明, 赵修建, 干福熹

SECOND HARMONIC GENERATION IN THE SYSTEM Ge-As-S ADN ANALYSIS OF THE POLING MECH ANISM

LIU QI-MING, ZHAO XIU-JIAN, GAN FU-XI
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出版历程
  • 收稿日期:  2000-01-30
  • 修回日期:  2000-04-30
  • 刊出日期:  2000-09-20

Ge-As-S体系玻璃中光学二次谐波发生及其极化机理分析

  • 1. (1)武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉 430070; (2)武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉 430070;中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800; (3)中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800
    基金项目: 教育部跨世纪优秀人才培养计划基金(1999年)资助的课题.

摘要: 采用Maker条纹法,在电子束辐射极化条件下的Ge-As-S体系玻璃中观察到二次谐波发生效应 .通过热诱导去极化电流法(TSDC)进行极化机理分析得出,极化区域位于玻璃表面很薄的一 层区域内,与理论计算结果相符.

English Abstract

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