分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn<sub>1-<i>x</i></sub>Mg<sub><i>x</i></sub>O薄膜折射率及厚度的测试
物理学报
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物理学报  2007, Vol. 56 Issue (7): 4127-4131
凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质 当期目录| 下期目录| 过刊浏览| 高级检索     
分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜折射率及厚度的测试
尾形健一1, 小池一步2, 佐佐诚彦3, 井上正崇3, 矢野满明3, 郑 凯4, 王 琳4, 李一凡4, 龚桃荣4, 简水生4, 延凤平5
(1)Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology; (2)New Material Research Center,Osaka Institute of Technology; (3)New Material Research Center,Osaka Institute of Technology;Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology; (4)北京交通大学光波技术研究所,北京 100044; (5)北京交通大学光波技术研究所,北京 100044;New Material Research Center,Osaka Institute of Technology
Measurement of thickness and refractive index of Zn1-xMgxO film grown on sapphire substrate by molecular beam epitaxy
K. Ogata1, K. Koike2, S. Sasa3, M. Inoue3, M. Yano3, Zheng Kai4, Wang Lin4, Li Yi-Fan4, Gong Tao-Rong4, Jian Shui-Sheng4, Yan Feng-Ping5
(1)Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology; (2)New Material Research Center,Osaka Institute of Technology; (3)New Material Research Center,Osaka Institute of Technology;Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology; (4)北京交通大学光波技术研究所,北京 100044; (5)北京交通大学光波技术研究所,北京 100044;New Material Research Center,Osaka Institute of Technology

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