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| 分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn1－xMgxO薄膜折射率及厚度的测试 |
| 尾形健一1, 小池一步2, 佐佐诚彦3, 井上正崇3, 矢野满明3, 郑 凯4, 王 琳4, 李一凡4, 龚桃荣4, 简水生4, 延凤平5 |
| (1)Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology; (2)New Material Research Center,Osaka Institute of Technology; (3)New Material Research Center,Osaka Institute of Technology;Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology; (4)北京交通大学光波技术研究所，北京 100044; (5)北京交通大学光波技术研究所，北京 100044;New Material Research Center,Osaka Institute of Technology |
| Measurement of thickness and refractive index of Zn1-xMgxO film grown on sapphire substrate by molecular beam epitaxy |
| K. Ogata1, K. Koike2, S. Sasa3, M. Inoue3, M. Yano3, Zheng Kai4, Wang Lin4, Li Yi-Fan4, Gong Tao-Rong4, Jian Shui-Sheng4, Yan Feng-Ping5 |
| (1)Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology; (2)New Material Research Center,Osaka Institute of Technology; (3)New Material Research Center,Osaka Institute of Technology;Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology; (4)北京交通大学光波技术研究所，北京 100044; (5)北京交通大学光波技术研究所，北京 100044;New Material Research Center,Osaka Institute of Technology |
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摘要： 利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO 薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试. 结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量，经数值拟合，导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线，为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn1-xMgxO 薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn1-xMgxO 薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据.
关键词：
ZnMgO薄膜
偏振光椭圆率测量仪
折射率
分子束外延(MBE)
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Abstract： The thickness and refractive index of Zn1-xMgxO film grown on A-sapphire substrate by molecular beam epitaxy were measured by ellipsometry. Combined with Mg content measured by inductively coupled plasma (ICP), the curves showing the relationships of thickness with film growth condition and the refractive index with the Mg content in the film were deduced by numerical analysis, which may serve as a theoretical basis for controlling the thickness and the refractive index in Zn1-xMgxO film growth process.
Keywords：
ZnMgO film
ellipsometry
refractive index
molecular beam epitaxy (MBE)
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收稿日期: 2006-09-27
出版日期: 2007-07-20
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| 基金: 国家自然科学基金重点项目(批准号：60337010)资助的课题. |
| 引用本文: |
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延凤平,郑 凯,王 琳 等 . 分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn1－xMgxO薄膜折射率及厚度的测试. 物理学报, 2007, 56(7): 4131.
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| Cite this article: |
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Yan Feng-Ping,Zheng Kai,Wang Lin et al. Measurement of thickness and refractive index of Zn1-xMgxO film grown on sapphire substrate by molecular beam epitaxy. Acta Phys. Sin., 2007, 56(7): 4127-4131.
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| URL: |
| http://wulixb.iphy.ac.cn/CN/Y2007/V56/I7/4127 |
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2007, Vol. 56 
