电化学制备薄黑硅抗反射膜
物理学报
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物理学报  2008, Vol. 57 Issue (1): 514-518
凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质 当期目录| 下期目录| 过刊浏览| 高级检索     
电化学制备薄黑硅抗反射膜
刘光友, 谭兴文, 姚金才, 王 振, 熊祖洪
西南大学物理科学与技术学院,重庆 400715
“Black silicon" antireflection thin film prepared by electrochemical etching
Liu Guang-You, Tan Xing-Wen, Yao Jin-Cai, Wang Zhen, Xiong Zu-Hong
西南大学物理科学与技术学院,重庆 400715

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