物理学报
引用检索 快速检索
物理学报  2010, Vol. 59 Issue (10): 7410.      DOI: 10.7498/aps.59.7410
物理学交叉学科及有关科学技术领域 最新目录| 下期目录| 过刊浏览| 高级检索 |
退火对B掺杂纳米金刚石薄膜微结构和电化学性能的影响
潘金平, 胡晓君, 陆利平, 印迟
浙江工业大学化学工程与材料学院,杭州 310014
Influence of annealing on the microstructure and electrochemical properties of B-doped nanocrystalline diamond films
Pan Jin-Ping, Hu Xiao-Jun, Lu Li-Ping, Yin Chi
College of Chemical Engineering and Material Science, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, China


版权所有 ©  物理学报
地址:北京市603信箱,《物理学报》编辑部 邮编:100190
电话:010-82649294,82649829,82649863   E-mail:apsoffice@iphy.ac.cn
网络系统维护电话:010-62662699-1; 技术支持邮箱 linjl@magtech.com.cn