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界面态电荷对n沟6H-SiC MOSFET场效应迁移率的影响

汤晓燕 张义门 张玉明 郜锦侠

界面态电荷对n沟6H-SiC MOSFET场效应迁移率的影响

汤晓燕, 张义门, 张玉明, 郜锦侠
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出版历程
  • 收稿日期:  2001-12-07
  • 修回日期:  2002-06-03
  • 刊出日期:  2003-02-05

界面态电荷对n沟6H-SiC MOSFET场效应迁移率的影响

  • 1. 西安电子科技大学微电子研究所,西安710071
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:19972010)资助的课题.

摘要: 针对界面态密度在禁带中的不均匀分布,分析了界面态电荷对n沟6H碳化硅MOSFET场效应迁移率的影响.分析结果显示,界面态电荷使n沟碳化硅器件的场效应迁移率明显降低.并给出了实验测定的场效应迁移率和反型层载流子迁移率的比值与界面态密度之间关系.

English Abstract

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