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AlGaN/AlN/GaN高电子迁移率器件的电容电压特性的经验拟合

王鑫华 赵妙 刘新宇 蒲颜 郑英奎 魏珂

AlGaN/AlN/GaN高电子迁移率器件的电容电压特性的经验拟合

王鑫华, 赵妙, 刘新宇, 蒲颜, 郑英奎, 魏珂
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  • 利用蓝宝石衬底的AlGaN/AlN/GaN 高电子迁移率器件(HEMT)的电容电压(C-V)特性,对电子费米能级与二维电子气面密度的经验关系进行表征,其结果对器件电荷控制模型的建立,跨导及电容表达式的简化有重要意义.文章创新性地提出参数α用于表征二维势阱对沟道电子限制能力,并认为α越小则二维势阱的沟道电子限制能力越强.利用上述经验关系来拟合电容,可以获得与实测电容很好的一致性.
    • 基金项目: 国家重点基础研究发展计划(批准号:2010CB327500),国家自然科学基金(批准号:60976059,60890191)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2010-06-22
  • 修回日期:  2010-07-19
  • 刊出日期:  2011-04-15

AlGaN/AlN/GaN高电子迁移率器件的电容电压特性的经验拟合

  • 1. 中国科学院微电子研究所,微电子器件与集成技术重点实验室,北京 100029
    基金项目: 

    国家重点基础研究发展计划(批准号:2010CB327500),国家自然科学基金(批准号:60976059,60890191)资助的课题.

摘要: 利用蓝宝石衬底的AlGaN/AlN/GaN 高电子迁移率器件(HEMT)的电容电压(C-V)特性,对电子费米能级与二维电子气面密度的经验关系进行表征,其结果对器件电荷控制模型的建立,跨导及电容表达式的简化有重要意义.文章创新性地提出参数α用于表征二维势阱对沟道电子限制能力,并认为α越小则二维势阱的沟道电子限制能力越强.利用上述经验关系来拟合电容,可以获得与实测电容很好的一致性.

English Abstract

参考文献 (29)

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