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纯锆上离子注入钇和镧后的表面分析

彭德全 白新德 潘 峰 孙 辉

纯锆上离子注入钇和镧后的表面分析

彭德全, 白新德, 潘 峰, 孙 辉
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-04-20
  • 修回日期:  2005-06-21
  • 刊出日期:  2005-12-20

纯锆上离子注入钇和镧后的表面分析

  • 1. 清华大学材料科学与工程系,北京 100084
    基金项目: 

    国家重点基础研究发展规划(批准号:G2000067207-1)资助的课题.

摘要: 用金属蒸汽真空弧源,以40kV加速电压对纯锆样品分别进行了1016—1017/cm2的钇、镧离子注入,注入温度约为130℃.然后对注入样品进行表面分析.x射线光电子能谱分析表明,注入的钇以Y2O3形式存在,镧以La2O3形式存在.俄歇电子能谱表明,纯锆基体表面的氧化膜厚度随着离子注入剂量的增加而增加,当离子注入剂量达到1017/cm2时,氧化膜的厚度达到了最大值.卢瑟福背散射显示镧层的厚度约为30nm,同时直接观察到当离子注入剂量为(La+Y)1017/cm2时,纯锆样品表面发生了严重的溅射.

English Abstract

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