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原子力显微镜与x射线光电子能谱对LiBq4/ITO和LiBq4/CuPc/ITO的表面分析

欧谷平 宋 珍 桂文明 张福甲

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原子力显微镜与x射线光电子能谱对LiBq4/ITO和LiBq4/CuPc/ITO的表面分析

欧谷平, 宋 珍, 桂文明, 张福甲

Surface analysis of LiBq4/ITO and LiBq4/CuPc/ITO using atomic force microscopy and x-ray photoelectron spectroscopy

Ou Gu-Ping, Song Zhen, Gui Wen-Ming, Zhang Fu-Jia
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  • 利用原子力显微镜对8-羟基喹啉硼化锂(LiBq4)/铟锡氧化物和8-羟基喹啉硼化锂/酞菁铜(CuPc)/铟锡氧化物表面分别进行了扫描,显示了LiBq4在不同衬底上的形貌差异,并进一步利用样品表面的x射线光电子能谱图验证了这一差异.实验表明,CuPc层的加入改善了LiBq4的成膜质量,并将这种改善归因于分子构型与电子亲和势的不同.
    We have investigated the surfaces of the samples LiBq4/ITO and LiBq4/CuPc/ITO. The atomic force microscopy (AFM) observations indicate that different surface morphologies are formed on different substrates, and what is more, x-ray photoelectron spectroscopy is also utilized to further demonstrate the AFM results. It is concluded that the introduction of a CuPc buffer layer under the LiBq4 layer can improve the film quality of LiBq4, and the improvement should be attributed to the differences in molecular structure and electron affinity.
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号:60276026)和甘肃省自然科学基金(批准号:ZSO31-A25-012-G)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-06-15
  • 修回日期:  2005-07-15
  • 刊出日期:  2005-06-05

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