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制备工艺对Zn1-xMgxO薄膜结构及光学性能的影响

王伟娜 方庆清 周军 王胜男 闫方亮 刘艳美 李雁 吕庆荣

制备工艺对Zn1-xMgxO薄膜结构及光学性能的影响

王伟娜, 方庆清, 周军, 王胜男, 闫方亮, 刘艳美, 李雁, 吕庆荣
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-09-24
  • 修回日期:  2008-11-15
  • 刊出日期:  2009-05-20

制备工艺对Zn1-xMgxO薄膜结构及光学性能的影响

  • 1. 安徽大学物理与材料科学学院,光电信息获取与控制教育部重点实验室,合肥 230039

摘要: 采用脉冲激光沉积(PLD)方法在单晶Si(100)衬底上沿c轴方向生长单晶Zn1-xMgxO薄膜,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)和荧光光谱(PL)研究了膜厚、Mg含量、退火温度及氧气氛等制备工艺对Zn1-xMgxO薄膜的结构、形貌和光学性质的影响.实验结果表明,Mg含量x≤0.15时, Zn

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