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不同射频输入功率下制备的氟化类金刚石碳膜疏水性研究

朱丽 江美福 宁兆元 杜记龙 王培君

不同射频输入功率下制备的氟化类金刚石碳膜疏水性研究

朱丽, 江美福, 宁兆元, 杜记龙, 王培君
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-08-02
  • 修回日期:  2009-01-17
  • 刊出日期:  2009-09-20

不同射频输入功率下制备的氟化类金刚石碳膜疏水性研究

  • 1. 苏州大学物理科学与技术学院,苏州 215006

摘要: 以高纯石墨作靶、氩气(Ar)和三氟甲烷(CHF3)为源气体,用反应磁控溅射法在不同射频功率下制备了氟化类金刚石碳(F-DLC)膜,并对其疏水性进行研究.双蒸水液滴与膜表面接触角的测试结果表明,所制备薄膜表面的最大水接触角可达115°左右.通过原子力显微镜获得的薄膜表面AFM图谱、拉曼光谱以及傅里叶变换红外光谱探讨了影响薄膜的疏水性的因素.结果表明,薄膜的疏水性与薄膜的表面粗糙度和表面键结构直接相关,表面粗糙度越大,疏水性越好,但与薄膜中的F含量和sp3/sp2的比值并未呈单调增加或减小的对应关系.射频输入功率影响着薄膜的沉积速率,与薄膜表面粗糙度、薄膜中芳香环单核的比例以及薄膜表面的键结构(F的接入方式)直接相关.

English Abstract

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