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NO在Cu(110)表面吸附的角分辨光电子能谱

张训生 董峰 鲍德松 杜志强

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NO在Cu(110)表面吸附的角分辨光电子能谱

张训生, 董峰, 鲍德松, 杜志强

ARUPS OF THE ADSORPTION OF NITRIC OXIDE ON Cu(llO) SURFACE AT 150K

ZHANG XUN-SHENG, DONG FENG, BAO DE-SONG, DU ZHI-QIANG
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  • 本文用角分辨光电子能谱(ARUPS)(He Ⅱ),低能电子衍射(LEED)和俄歇电子能谱AES等方法研究了NO在Cu(110)表面吸附的光电子能谱。测量结果表明:在150K左右,NO在Cu(11O)表面是一个比较复杂的分解吸附过程。随着暴露量的不同,在Cu(110)表面形成的分解吸附分子是不同的。在NO5L暴露量时,主要形成O原子和N2O分子吸附。吸附的LEED图形仍然是(1×1)。
    The investigation of ARUPS of nitric oxide adsorbed on Cu(110) is reported here. The results show that it is a complex dissociative process that occurs at 150 K. Varied with the exposure of NO, the different molecules which are dissociated from NO, are adsorbed on Cu (110). With 5L NO the dominant adsorbates are atomic oxygen and N2O molecules. The adsorption LEED pattern is still (1×1). The present problem has been studied by ARUPS, LEED and AES.
    • 基金项目: 浙江省自然科学基金资助的课题
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出版历程
  • 收稿日期:  1992-08-28
  • 刊出日期:  2005-07-10

NO在Cu(110)表面吸附的角分辨光电子能谱

  • 1. 浙江大学物理系,杭州310027
    基金项目: 浙江省自然科学基金资助的课题

摘要: 本文用角分辨光电子能谱(ARUPS)(He Ⅱ),低能电子衍射(LEED)和俄歇电子能谱AES等方法研究了NO在Cu(110)表面吸附的光电子能谱。测量结果表明:在150K左右,NO在Cu(11O)表面是一个比较复杂的分解吸附过程。随着暴露量的不同,在Cu(110)表面形成的分解吸附分子是不同的。在NO5L暴露量时,主要形成O原子和N2O分子吸附。吸附的LEED图形仍然是(1×1)。

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