搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

沉积在α-Al2O3分形基底上Ag薄膜的特性

许宇庆 叶高翔 王劲松 陶向明 张其瑞

引用本文:
Citation:

沉积在α-Al2O3分形基底上Ag薄膜的特性

许宇庆, 叶高翔, 王劲松, 陶向明, 张其瑞

CHARACTERISTICS OF Ag THIN FILMS DEPOSITED ON THE FRACTAL SUBSTRATES OF α-Al2O3 CERAMICS

XU YU-QING, YE GAO-XIANG, WANG JANG-SONG, TAO XIANG-MING, ZHANG QI-RUI
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  4477
  • PDF下载量:  747
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  1993-07-05
  • 刊出日期:  1994-07-20

沉积在α-Al2O3分形基底上Ag薄膜的特性

  • 1. (1)浙江大学物理系; (2)浙江大学物理系,杭州大学物理系

摘要: 报道了采用磁控溅射法在α-Al2O3分形基底上沉积Ag薄膜表面的形貌、结晶状态以及其V-I特性.结果表明:分形的Al2O3基底导致Ag薄膜具有起伏不平的结构、较差的结晶状态并且存在大量的孔洞,它们同样受基底温度和薄膜厚度的影响.在一定的厚度范围内,Ag薄膜呈现反常的非线性I(V)特性,其行为也受薄膜厚度、基底温度和测试环境的强烈影响.

English Abstract

目录

    /

    返回文章
    返回