绝缘氧化层上自离子注入Si薄膜W线发光性能的调控
物理学报
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物理学报  2011, Vol. 60 Issue (10): 106104     doi:10.7498/aps.60.106104
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绝缘氧化层上自离子注入Si薄膜W线发光性能的调控
王茺1, 杨宇1, 杨瑞东1, 李亮1, 韦冬1, 靳映霞1, Bao Ji-Ming2
1. 云南大学光电信息材料研究所,昆明 650091;
2. Department of Electrical and Computer Engineering,University of Houston,Houston,Texas 77204,USA
Manipulations of properties of the W-line emitting from the Si+ Self-ion-implanted Si thin films on insulated oxide layer
Wang Chong1, Yang Yu1, Yang Rui-Dong1, Li Liang1, Wei Dong1, Jin Ying-Xia1, Bao Ji-Ming2
1. Institute of Optoelectronic Information Materials, Yunnan University, Kunming 650091;
2. Department of Electrical and Computer Engineering, University of Houston, Houston, Texas 77204, USA

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