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掺铒高硅氧玻璃光谱性质的研究

赤井智子 角野广平 周秦岭 陈丹平 达 宁 杨旅云 彭明营 孟宪庚

掺铒高硅氧玻璃光谱性质的研究

赤井智子, 角野广平, 周秦岭, 陈丹平, 达 宁, 杨旅云, 彭明营, 孟宪庚
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-07-08
  • 修回日期:  2005-11-17
  • 刊出日期:  2006-06-20

掺铒高硅氧玻璃光谱性质的研究

  • 1. (1)日本产业技术综合研究所,大阪 563-8577 日本; (2)中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800; (3)中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800;中国科学院研究生院,北京 100080
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50125258和60377040)和上海市科委纳米专项(批准号:0352nm042)资助的课题.

摘要: 应用Judd-Oflet理论计算了新型掺铒高硅氧玻璃中铒离子的强度参量Ωt(t=2,4,6),Ω2=8.15×10-20,Ω4=1.43×10-20,Ω6=1.22×10-20,相比于其他氧化物玻璃,表现出较大的Ω2,6值,反映了铒离子周围的近邻结构不对称性和Er-O键的离子键成分较高.利用McCumber理论计算得到了能级

English Abstract

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