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SrTiO3(001)衬底上单层FeSe超导薄膜的分子束外延生长

王萌 欧云波 李坊森 张文号 汤辰佳 王立莉 薛其坤 马旭村

SrTiO3(001)衬底上单层FeSe超导薄膜的分子束外延生长

王萌, 欧云波, 李坊森, 张文号, 汤辰佳, 王立莉, 薛其坤, 马旭村
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出版历程
  • 收稿日期:  2013-12-01
  • 修回日期:  2013-12-11
  • 刊出日期:  2014-01-20

SrTiO3(001)衬底上单层FeSe超导薄膜的分子束外延生长

  • 1. 北京邮电大学电子工程学院, 北京 100876;
  • 2. 清华大学, 低维量子物理国家重点实验室, 北京 100084;
  • 3. 中国科学院物理研究所, 表面物理国家重点实验室, 北京 100190
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:11374336,91121004)资助的课题.

摘要: 在以前工作的基础上,进一步研究了SrTiO3(001)(STO)衬底上单层FeSe超导薄膜的分子束外延生长. 首先,通过去离子水刻蚀、盐酸溶液腐蚀和纯氧气氛中退火等步骤,获得台阶有序、具有单一TiO2终止的原子级平整表面的STO衬底,这是前提条件. 这个过程中酸的选择和退火过程中氧的流量是最为关键的因素. 其次,在FeSe薄膜的分子束外延生长中,选择适当的Fe源和Se 源束流以及衬底温度是关键因素. 如选择适当,生长模式为step-flow生长,这时得到的FeSe薄膜将是原子级平整的. 最后一步为退火,这个过程会增强FeSe薄膜结晶性以及它与SrTiO3衬底间的结合强度.

English Abstract

参考文献 (13)

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