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圆窗片表面次级电子倍增效应的数值模拟

张雪 王勇 范俊杰 张瑞

圆窗片表面次级电子倍增效应的数值模拟

张雪, 王勇, 范俊杰, 张瑞
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  • 基于Monte Carlo模拟算法, 建立了粒子输运模型, 通过对盒形窗内圆窗片表面次级电子倍增现象进行数值仿真, 获得了TE11模非均匀分布电场作用下次级电子倍增的规律. 结果表明: 在微波输入端, 指向窗片表面的磁场力起到了维持次级电子与窗片碰撞的作用, 在电场强度较高的区域倍增剧烈, 有质动力对倍增无贡献; 在微波输出端, 受背离窗片表面磁场力的影响, 在表面静电场较弱的情况下, 次级电子倍增不能发生; 当表面静电场足以维持单面倍增的发生, 随着传输功率的增大, 电子渡越时间增长, 有质动力使得倍增强烈的区域由强电场区逐渐转移到弱电场区域. 对利用外静电场抑制微波输入端次级电子倍增效应的方法进行了数值模拟验证.
    • 基金项目: 国家重点基础研究发展计划(批准号:2013CB328901)资助的课题.
    [1]

    Semenov V, Rakova E, Zharova N, Anderson D, Lisak M, Puech J 2008 IEEE Trans. Plasma Sci. 32 488

    [2]

    Buyanova M N, Nechaev V E, Semenov V E 2007 Radiophys Quantum Electron 50 893

    [3]

    Pérez A M, Boria V E, Gimeno B, Anza S, Vicetne C, Gil J 2009 J. Electromagnets Wave and Appl. 23 1575

    [4]

    Lobaev M A, Ivanov O A, Isaev V A, Vikharev A L 2009 Tech. Phys. Lett. 35 12

    [5]

    Li Y, Cui W Z, Zhang N, Wang X B, Wang H G, Li Y D, Zhang J F 2014 Chin. Phys. B 23 048402

    [6]

    Wu L, Ang L K 2007 Phys. Plasmas 14 013105

    [7]

    Rasch J 2012 Ph. D. Dissertation (Sweden, Goteborg: Chalmers University of Technology)

    [8]

    Sazontov A, Semenov V, Buyanova M, Vdovicheva N, Anderson D, Lisak M, Puech J, Lapierre L 2005 Phys. Plasmas 12 093501

    [9]

    Semenov V E, Zharova N A, Anderson D, Lisak M, Puech J 2010 Phys. Plasmas 17 123503

    [10]

    Semenov V E, Rakova E I, Anderson D, Lisak M, Puech J 2007 Phys. Plasmas 14 033501

    [11]

    Semenov V E, Rakova E I, Udijak R, Anderson D, Lisak M, Puech J 2008 Phys. Plasmas 15 033501

    [12]

    Dong Y, Dong Z W, Yang W Y, Zhou Q H, Zhou H J 2013 Acta Phys. Sin. 62 197901 (in Chinese) [董烨, 董志伟, 杨温渊, 周前红, 周海京 2013 物理学报 62 197901]

    [13]

    Vlieks A E, Allen M A, Callin R S, Fowkes W R, Hoyt E W, Lebacqz J V, Lee T G 1989 IEEE Trans. Electr. Insul. 24 1023

    [14]

    Zhu F, Zhang Z C, Dai S, Luo J R 2011 Acta Phys. Sin. 60 084103 (in Chinese) [朱方, 张兆传, 戴舜, 罗继润 2011 物理学报 60 084103]

    [15]

    Yamaguchi S, Saito Y, Anami S, Michizono S 1992 IEEE Trans. Nucl. Sci. 39 278

    [16]

    Saito Y, Michizono S, Anami S, Kobayashi S 1993 IEEE Trans. Electr. Insul. 28 566

    [17]

    Saito Y 1992 Proceedings of the 1992 Linear Accelerator Conference Ottawa, Ontario, Canada, Aug. 24-28, 1992 p575

    [18]

    Miura A, Matsumoto H 1992 Proceedings of the 1992 Linear Accelerator Conference Ottawa, Ontario, Canada, Aug. 24-28, 1992 p124

    [19]

    Matsumoto H 1999 Proceedings of the 1999 Particle Accelerator Conference New York, USA, May 27-Apr. 2, 1999 p536

    [20]

    Vaughan J R M 1988 IEEE Trans. ED. 35 1172

    [21]

    Kishek R A, Lau Y Y 1998 Phys. Rev. Lett. 80 193

    [22]

    Hemmert D, Neuber A, Dickens J, Krompholz H, Hatfield L L, Kristiansen M 2000 IEEE Trans. Plasma Sci. 28 472

    [23]

    Sazontov A G, Nevchaev V E 2010 Phys. Plasmas 17 033509

    [24]

    Ang L K, Lau Y Y, Kishek R A, Gilgenbach R M 1998 IEEE Trans. Plasma Sci. 26 290

    [25]

    Michizono S, Saito Y, Suharyanto, Yamano Y, Kobayashi S 2004 Appl. Surf. Sci. 235 227

    [26]

    Foster J, Thomas M, Neuber A A 2009 J. Appl. Phys. 106 063310

    [27]

    Ivanov O A, Lobaev M A, Isaev V A, Vikharev A L 2010 Phys. Rev. ST Accel. Beams 13 022004

  • [1]

    Semenov V, Rakova E, Zharova N, Anderson D, Lisak M, Puech J 2008 IEEE Trans. Plasma Sci. 32 488

    [2]

    Buyanova M N, Nechaev V E, Semenov V E 2007 Radiophys Quantum Electron 50 893

    [3]

    Pérez A M, Boria V E, Gimeno B, Anza S, Vicetne C, Gil J 2009 J. Electromagnets Wave and Appl. 23 1575

    [4]

    Lobaev M A, Ivanov O A, Isaev V A, Vikharev A L 2009 Tech. Phys. Lett. 35 12

    [5]

    Li Y, Cui W Z, Zhang N, Wang X B, Wang H G, Li Y D, Zhang J F 2014 Chin. Phys. B 23 048402

    [6]

    Wu L, Ang L K 2007 Phys. Plasmas 14 013105

    [7]

    Rasch J 2012 Ph. D. Dissertation (Sweden, Goteborg: Chalmers University of Technology)

    [8]

    Sazontov A, Semenov V, Buyanova M, Vdovicheva N, Anderson D, Lisak M, Puech J, Lapierre L 2005 Phys. Plasmas 12 093501

    [9]

    Semenov V E, Zharova N A, Anderson D, Lisak M, Puech J 2010 Phys. Plasmas 17 123503

    [10]

    Semenov V E, Rakova E I, Anderson D, Lisak M, Puech J 2007 Phys. Plasmas 14 033501

    [11]

    Semenov V E, Rakova E I, Udijak R, Anderson D, Lisak M, Puech J 2008 Phys. Plasmas 15 033501

    [12]

    Dong Y, Dong Z W, Yang W Y, Zhou Q H, Zhou H J 2013 Acta Phys. Sin. 62 197901 (in Chinese) [董烨, 董志伟, 杨温渊, 周前红, 周海京 2013 物理学报 62 197901]

    [13]

    Vlieks A E, Allen M A, Callin R S, Fowkes W R, Hoyt E W, Lebacqz J V, Lee T G 1989 IEEE Trans. Electr. Insul. 24 1023

    [14]

    Zhu F, Zhang Z C, Dai S, Luo J R 2011 Acta Phys. Sin. 60 084103 (in Chinese) [朱方, 张兆传, 戴舜, 罗继润 2011 物理学报 60 084103]

    [15]

    Yamaguchi S, Saito Y, Anami S, Michizono S 1992 IEEE Trans. Nucl. Sci. 39 278

    [16]

    Saito Y, Michizono S, Anami S, Kobayashi S 1993 IEEE Trans. Electr. Insul. 28 566

    [17]

    Saito Y 1992 Proceedings of the 1992 Linear Accelerator Conference Ottawa, Ontario, Canada, Aug. 24-28, 1992 p575

    [18]

    Miura A, Matsumoto H 1992 Proceedings of the 1992 Linear Accelerator Conference Ottawa, Ontario, Canada, Aug. 24-28, 1992 p124

    [19]

    Matsumoto H 1999 Proceedings of the 1999 Particle Accelerator Conference New York, USA, May 27-Apr. 2, 1999 p536

    [20]

    Vaughan J R M 1988 IEEE Trans. ED. 35 1172

    [21]

    Kishek R A, Lau Y Y 1998 Phys. Rev. Lett. 80 193

    [22]

    Hemmert D, Neuber A, Dickens J, Krompholz H, Hatfield L L, Kristiansen M 2000 IEEE Trans. Plasma Sci. 28 472

    [23]

    Sazontov A G, Nevchaev V E 2010 Phys. Plasmas 17 033509

    [24]

    Ang L K, Lau Y Y, Kishek R A, Gilgenbach R M 1998 IEEE Trans. Plasma Sci. 26 290

    [25]

    Michizono S, Saito Y, Suharyanto, Yamano Y, Kobayashi S 2004 Appl. Surf. Sci. 235 227

    [26]

    Foster J, Thomas M, Neuber A A 2009 J. Appl. Phys. 106 063310

    [27]

    Ivanov O A, Lobaev M A, Isaev V A, Vikharev A L 2010 Phys. Rev. ST Accel. Beams 13 022004

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出版历程
  • 收稿日期:  2014-04-15
  • 修回日期:  2014-07-15
  • 刊出日期:  2014-11-05

圆窗片表面次级电子倍增效应的数值模拟

  • 1. 中国科学院电子学研究所, 高功率微波源与技术重点实验室, 北京 100190;
  • 2. 中国科学院大学, 北京 100049
    基金项目: 

    国家重点基础研究发展计划(批准号:2013CB328901)资助的课题.

摘要: 基于Monte Carlo模拟算法, 建立了粒子输运模型, 通过对盒形窗内圆窗片表面次级电子倍增现象进行数值仿真, 获得了TE11模非均匀分布电场作用下次级电子倍增的规律. 结果表明: 在微波输入端, 指向窗片表面的磁场力起到了维持次级电子与窗片碰撞的作用, 在电场强度较高的区域倍增剧烈, 有质动力对倍增无贡献; 在微波输出端, 受背离窗片表面磁场力的影响, 在表面静电场较弱的情况下, 次级电子倍增不能发生; 当表面静电场足以维持单面倍增的发生, 随着传输功率的增大, 电子渡越时间增长, 有质动力使得倍增强烈的区域由强电场区逐渐转移到弱电场区域. 对利用外静电场抑制微波输入端次级电子倍增效应的方法进行了数值模拟验证.

English Abstract

参考文献 (27)

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