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电子回旋共振等离子体增强沉积氟化非晶碳薄膜的光学性质

叶超 宁兆元 程珊华

电子回旋共振等离子体增强沉积氟化非晶碳薄膜的光学性质

叶超, 宁兆元, 程珊华
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出版历程
  • 收稿日期:  2001-03-05
  • 修回日期:  2001-05-12
  • 刊出日期:  2001-10-20

电子回旋共振等离子体增强沉积氟化非晶碳薄膜的光学性质

  • 1. 苏州大学物理系,苏州215006
    基金项目: 

    江苏省自然科学基金(批准号:L3108703)资助的课题.

摘要: 用紫外可见光透射光谱(UV-VIS)并结合键结构的X射线光电子能谱(XPS)和红外谱(FTIR)分析,研究了电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法制备的氟化非晶碳薄膜的光吸收和光学带隙性质.在微波功率为140—700W、源气体CHF3∶C6H6比例为1∶1—10∶1条件下沉积的薄膜,光学带隙在1.76—2.85eV之间.薄膜中氟的引入对吸收边和光学带隙产生较大的影响,吸收边随氟含量的提高而增大,光学带隙则主要取决于CF键的含量,是由于强电负

English Abstract

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