搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

脉冲激光制备薄膜材料的烧蚀机理

钟志成 张端明 侯思普 关 丽 李智华 杨凤霞 郑克玉

脉冲激光制备薄膜材料的烧蚀机理

钟志成, 张端明, 侯思普, 关 丽, 李智华, 杨凤霞, 郑克玉
PDF
导出引用
导出核心图
计量
  • 文章访问数:  2863
  • PDF下载量:  1038
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2003-04-11
  • 修回日期:  2003-06-02
  • 刊出日期:  2004-07-15

脉冲激光制备薄膜材料的烧蚀机理

  • 1. (1)湖北襄樊学院物理系,襄樊 441053; (2)华中科技大学物理系,武汉 430074;华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉 430074
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50272022)、华中科技大学激光技术国家重点实验室基金(批准号:9713D)、湖北省自然科学基金(批准号:2001ABB099)、湖北省教育厅重大科技项目基金(批准号:2000B5002)资助的课题.

摘要: 研究了脉冲激光烧蚀靶材的整个过程.从包含热源项的导热方程出发,利用适当的动态边界条件,详细研究了靶材在熔融前后的温度分布规律,并且给出了熔融后的固、液分界面的变化规律.熔融后的温度演化规律和固液相界面均以解析表达式的形式给出.还根据能量平衡原理给出烧蚀面位置随时间的变化规律.以硅靶材为例计算模拟了激光烧蚀的整个过程,与实验结果符合较好.

English Abstract

目录

    /

    返回文章
    返回