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碲镉汞辐射损伤的微观过程

宋祥云 温树林

碲镉汞辐射损伤的微观过程

宋祥云, 温树林
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出版历程
  • 收稿日期:  1986-09-05
  • 修回日期:  1987-06-19
  • 刊出日期:  2005-07-05

碲镉汞辐射损伤的微观过程

  • 1. 中国科学院上海硅酸盐研究所

摘要: 利用高分辨率的电子显微技术,在原子和晶格尺度上,研究了碲镉汞晶体结构在大剂量高能电子作用下,晶体结构产生损伤、扩展和重构的过程。研究结果表明,碲镉汞结构损伤是在强电子束作用下,[(Hg,Cd)Te4]四面体的形变,在{111}面产生并沿{111}面呈阶梯形扩展的过程。从而在[110]方向观察到了新的更大周期的两维重构网格。

English Abstract

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