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氮原子、分子与团簇离子注入Si(111)的特性研究

王培录 刘仲阳 郑思孝 廖小东 杨朝文 唐阿友 师勉恭 杨百方 缪竞威

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氮原子、分子与团簇离子注入Si(111)的特性研究

王培录, 刘仲阳, 郑思孝, 廖小东, 杨朝文, 唐阿友, 师勉恭, 杨百方, 缪竞威

STUDIES ON THE FEATURE OF Si(111) SURFACE IMPLANTED BY NITROGEN ATOM,MOLECULE AND CLUSTER IONS

WANG PEI-LU, LIU ZHONG-YANG, ZHENG SI-XIAO, LIAO XIAO-DONG, YANG CHAO-WEN, TANG A-YOU, SHI MIAN-GONG, YANG BEI-FANG, MIAO JING-WEI
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出版历程
  • 收稿日期:  2000-11-25
  • 刊出日期:  2001-05-20

氮原子、分子与团簇离子注入Si(111)的特性研究

  • 1. 四川大学原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术重点实验室,成都610064
    基金项目: 国家自然科学基金重点项目(批准号:19735004、19575033);高等学校博士学科点专项科研基金(批准号:2000061017)资助的课题.

摘要: 用椭偏仪、傅氏变换红外吸收谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)以及原子力显微镜(AFM)对N+1,N+2,N+10离子高剂量(1.7×1017ions/cm2)注入Si(111)的表面进行测试分析,发现三种不同尺度的离子注入后,均使Si由复折射率变化为实折射率,表面出现含氮硅键的介质层.但其表面形貌各异:N+

English Abstract

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