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微晶硅薄膜的结构及光学性质的研究

郜小勇 李 瑞 陈永生 卢景霄 刘 萍 冯团辉 王红娟 杨仕娥

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微晶硅薄膜的结构及光学性质的研究

郜小勇, 李 瑞, 陈永生, 卢景霄, 刘 萍, 冯团辉, 王红娟, 杨仕娥

Study of the structural and optical properties of microcrystalline silicon film

Gao Xiao-Yong, Li Rui, Chen Yong-Sheng, Lu Jing-Xiao, Liu Ping, Feng Tuan-Hui, Wang Hong-Juan, Yang Shi-E
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-01-07
  • 修回日期:  2005-04-22
  • 刊出日期:  2006-01-20

微晶硅薄膜的结构及光学性质的研究

  • 1. 郑州大学教育部材料物理重点实验室,郑州 450052

摘要: 借助RF-PECVD辅助RTP技术,采用高沉积气压的技术路线制备了优质的微晶硅薄膜,并利用拉曼光谱、反射谱和透射谱分别研究了微晶硅的晶化率和光学性质.实验中发现微晶硅的吸收边出现了相对红移,此相对红移可归结于薄膜晶化率的提高和带尾态密度的降低.

English Abstract

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