搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

沉积工艺条件对金刚石薄膜红外椭偏光学性质的影响

苏青峰 刘健敏 王林军 史伟民 夏义本

沉积工艺条件对金刚石薄膜红外椭偏光学性质的影响

苏青峰, 刘健敏, 王林军, 史伟民, 夏义本
PDF
导出引用
  • 采用红外椭圆偏振光谱仪对不同工艺条件下制备的CVD金刚石薄膜在红外波长范围内的光学参量进行了测量,分析了工艺条件对金刚石薄膜红外光学性质的影响.获得了最佳的沉积工艺参数,优化了薄膜的制备工艺.结果表明薄膜的折射率和消光系数与薄膜质量密切相关,当温度为750℃,碳源浓度为0.9%和压强为4.0 kPa时,金刚石薄膜的红外椭偏光学性质最佳,折射率平均值为2.385,消光系数在10-4范围内,在红外波段具有良好的透过性.
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号:60577040),上海市纳米专项(批准号:0452nm051),上海应用材料研究与发展基金(批准号:0404)和上海市重点学科(批准号:T0101)资助的课题.
  • 引用本文:
    Citation:
计量
  • 文章访问数:  4201
  • PDF下载量:  1521
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2005-10-25
  • 修回日期:  2005-12-13
  • 刊出日期:  2006-05-05

沉积工艺条件对金刚石薄膜红外椭偏光学性质的影响

  • 1. 上海大学材料科学与工程学院,电子信息材料系,上海 200072
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:60577040),上海市纳米专项(批准号:0452nm051),上海应用材料研究与发展基金(批准号:0404)和上海市重点学科(批准号:T0101)资助的课题.

摘要: 采用红外椭圆偏振光谱仪对不同工艺条件下制备的CVD金刚石薄膜在红外波长范围内的光学参量进行了测量,分析了工艺条件对金刚石薄膜红外光学性质的影响.获得了最佳的沉积工艺参数,优化了薄膜的制备工艺.结果表明薄膜的折射率和消光系数与薄膜质量密切相关,当温度为750℃,碳源浓度为0.9%和压强为4.0 kPa时,金刚石薄膜的红外椭偏光学性质最佳,折射率平均值为2.385,消光系数在10-4范围内,在红外波段具有良好的透过性.

English Abstract

目录

    /

    返回文章
    返回