搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

射频磁控溅射法生长MgxZn1-xO薄膜的结构和光学特性

张锡健 马洪磊 王卿璞 马 瑾 宗福建 肖洪地 计 峰

射频磁控溅射法生长MgxZn1-xO薄膜的结构和光学特性

张锡健, 马洪磊, 王卿璞, 马 瑾, 宗福建, 肖洪地, 计 峰
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  4121
  • PDF下载量:  1060
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2004-10-15
  • 修回日期:  2005-01-10
  • 刊出日期:  2005-09-20

射频磁控溅射法生长MgxZn1-xO薄膜的结构和光学特性

  • 1. 山东大学物理与微电子学院,济南 250100
    基金项目: 

    教育部博士点基金(批准号:20020422056)资助的课题.

摘要: 用射频磁控溅射法在80℃的衬底温度下制备出MgxZn1-xO(0≤x ≤030)薄膜.x射线 衍射(XRD)结果表明,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构, 没有形成任何显著 的MgO分离相,MgxZn1-xO薄膜的择优取向平行于与衬底垂直的 c轴;c轴晶格常数随着Mg含量的增加逐渐减小.在MgxZn1-xO薄膜的光透射谱中出现 锐利的吸收边,由透 射谱估算出MgxZn1-xO薄膜的带隙宽度由332eV(x=0)线性地 增加到396eV(x=030).

English Abstract

目录

    /

    返回文章
    返回