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NiTi合金薄膜厚度对相变温度影响的X射线光电子能谱分析

刘常升 李永华 孟繁玲 王煜明 郑伟涛

NiTi合金薄膜厚度对相变温度影响的X射线光电子能谱分析

刘常升, 李永华, 孟繁玲, 王煜明, 郑伟涛
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-02-25
  • 修回日期:  3009-09-23
  • 刊出日期:  2009-04-20

NiTi合金薄膜厚度对相变温度影响的X射线光电子能谱分析

  • 1. (1)东北大学材料与冶金学院,沈阳 110004; (2)哈尔滨工程大学理学院,水下智能机器人技术国防科技重点实验室,哈尔滨 150001; (3)哈尔滨工程大学理学院,水下智能机器人技术国防科技重点实验室,哈尔滨 150001;吉林大学材料科学系,汽车材料教育部重点实验室,长春 130012; (4)吉林大学材料科学系,汽车材料教育部重点实验室,长春 130012
    基金项目: 

    哈尔滨工程大学科研启动金(批准号:HEUFT08035)、国家博士后科学基金(批准号:20060390432)和黑龙江省博士后科研启动资助金(批准号:LBH-Q08123)资助的课题.

摘要: 采用X射线衍射和X射线光电子能谱实验手段对不同厚度的NiTi薄膜相变温度的变化进行了分析.结果表明在相同衬底温度和退火条件下,3?μm厚度的薄膜晶化温度高于18?μm厚度的薄膜.衬底温度越高,薄膜越易晶化,退火后薄膜奥氏体相转变温度As越低.薄膜的表面有TiO2氧化层形成,氧化层阻止了Ni原子渗出;膜与基片的界面存在Ti2O3和NiO.由于表面和界面氧化层的存在,不同厚度的薄膜内层的厚度也不同,因而薄膜越薄,Ni原子的含量就越高.Ni原子的含量的不同会影响薄膜的相变温度.

English Abstract

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