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非平衡磁控溅射制备类石墨碳膜及性能研究

王永军 李红轩 吉利 刘晓红 吴艳霞 周惠娣 陈建敏

非平衡磁控溅射制备类石墨碳膜及性能研究

王永军, 李红轩, 吉利, 刘晓红, 吴艳霞, 周惠娣, 陈建敏
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  • 利用中频非平衡磁控溅射技术在单晶硅基底上沉积了类石墨碳膜, 采用Raman光谱、高分辨透射电子显微镜、原子力显微镜分析了薄膜微观结构和表面形貌; 采用纳米压痕仪和CSM摩擦磨损试验机测试了碳膜力学性能和摩擦学性能. 结果表明: 利用中频非平衡磁控溅射技术沉积的碳膜是一种以sp2键合碳为主、结构非晶、硬度适中、应力较低、表面粗糙度较大、摩擦性能优异的薄膜. 脉冲占空比对薄膜微观结构和性能有显著影响, 随着脉冲占空比的增大, Raman光谱D峰和G峰的强度比ID/IG先减小后增大, 而硬度随脉冲占空比的增大却呈现出相反的变化趋势, 即先增大后减小; 大气氛围中的摩擦性能测试表明, 本实验制备的薄膜具有优异的抗磨性能(~10-11 cm3/N-1. m-1)和承载能力(~2.5 GPa). 随脉冲占空比的增大, 薄膜摩擦系数变化甚微而磨损率却呈现先显著减小后轻微增大的变化趋势. 类石墨碳膜优异的摩擦学性能主要归因于其独特的结构、较低的内应力及良好的结构稳定性.
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号: 50705093, 50575217)、国家自然科学基金创新群体基金(批准号: 50421502)和国家重点基础研究发展计划(批准号: 2007 CB607601)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2011-02-11
  • 修回日期:  2011-06-23
  • 刊出日期:  2012-03-05

非平衡磁控溅射制备类石墨碳膜及性能研究

  • 1. 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室, 兰州 730000;
  • 2. 中国科学院 研究生院, 北京 100049
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号: 50705093, 50575217)、国家自然科学基金创新群体基金(批准号: 50421502)和国家重点基础研究发展计划(批准号: 2007 CB607601)资助的课题.

摘要: 利用中频非平衡磁控溅射技术在单晶硅基底上沉积了类石墨碳膜, 采用Raman光谱、高分辨透射电子显微镜、原子力显微镜分析了薄膜微观结构和表面形貌; 采用纳米压痕仪和CSM摩擦磨损试验机测试了碳膜力学性能和摩擦学性能. 结果表明: 利用中频非平衡磁控溅射技术沉积的碳膜是一种以sp2键合碳为主、结构非晶、硬度适中、应力较低、表面粗糙度较大、摩擦性能优异的薄膜. 脉冲占空比对薄膜微观结构和性能有显著影响, 随着脉冲占空比的增大, Raman光谱D峰和G峰的强度比ID/IG先减小后增大, 而硬度随脉冲占空比的增大却呈现出相反的变化趋势, 即先增大后减小; 大气氛围中的摩擦性能测试表明, 本实验制备的薄膜具有优异的抗磨性能(~10-11 cm3/N-1. m-1)和承载能力(~2.5 GPa). 随脉冲占空比的增大, 薄膜摩擦系数变化甚微而磨损率却呈现先显著减小后轻微增大的变化趋势. 类石墨碳膜优异的摩擦学性能主要归因于其独特的结构、较低的内应力及良好的结构稳定性.

English Abstract

参考文献 (43)

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