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SiOxNy薄膜高场电子陷阱和释放特性的研究

杨炳良 刘百勇 郑耀宗 王曦

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SiOxNy薄膜高场电子陷阱和释放特性的研究

杨炳良, 刘百勇, 郑耀宗, 王曦

STUDY ON HIGH-FIELD ELECTRON TRAPPING AND DETRAPPING PROPERTY IN THIN SiOx Ny FILMS

YANG BING-LIANG, LIU BAI-YONG, Y. C. CHENG, H. WONG
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出版历程
  • 收稿日期:  1990-12-13
  • 刊出日期:  2005-06-28

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