[1] |
周继阳, 李强, 许金时, 李传锋, 郭光灿. 光纤腔耦合碳化硅薄膜的理论计算. 物理学报,
2022, 71(6): 060303.
doi: 10.7498/aps.71.20211797
|
[2] |
周耐根, 洪涛, 周浪. MEAM势与Tersoff势比较研究碳化硅熔化与凝固行为. 物理学报,
2012, 61(2): 028101.
doi: 10.7498/aps.61.028101
|
[3] |
秦希峰, 梁毅, 王凤翔, 李双, 付刚, 季艳菊. 铒离子注入碳化硅的射程和退火行为研究. 物理学报,
2011, 60(6): 066101.
doi: 10.7498/aps.60.066101
|
[4] |
宋久旭, 杨银堂, 刘红霞, 张志勇. 掺氮碳化硅纳米管电子结构的第一性原理研究. 物理学报,
2009, 58(7): 4883-4887.
doi: 10.7498/aps.58.4883
|
[5] |
张洪华, 张崇宏, 李炳生, 周丽宏, 杨义涛, 付云翀. 碳化硅中氦离子高温注入引入的缺陷及其退火行为的光谱研究. 物理学报,
2009, 58(5): 3302-3308.
doi: 10.7498/aps.58.3302
|
[6] |
林 涛, 陈治明, 李 佳, 李连碧, 李青民, 蒲红斌. 6H碳化硅衬底上硅碳锗薄膜的生长特性研究. 物理学报,
2008, 57(9): 6007-6012.
doi: 10.7498/aps.57.6007
|
[7] |
李宜德, 杜英磊, 李纪焕, 吴柏枚. 光声谱研究多孔碳化硅的能带特性. 物理学报,
2003, 52(5): 1260-1263.
doi: 10.7498/aps.52.1260
|
[8] |
郭常霖. 属特殊结构系列的若干碳化硅多型体的晶体结构. 物理学报,
1982, 31(10): 1369-1379.
doi: 10.7498/aps.31.1369
|
[9] |
冯锡淇, 骆宾章. 升华外延碳化硅p-n结的性质. 物理学报,
1980, 29(1): 1-10.
doi: 10.7498/aps.29.1
|
[10] |
何寿安, 李家璘, 成向荣, 王文君, 沈主同. 静态超高压高温技术的若干问题. 物理学报,
1977, 26(2): 100-114.
doi: 10.7498/aps.26.100
|
[11] |
洪坚. 用触针下分布电阻的光电导相位法测量半导体中非平衡载流子寿命. 物理学报,
1966, 22(4): 385-403.
doi: 10.7498/aps.22.385
|
[12] |
郭常霖, 唐士鑫. 侵蚀法测定碳化硅结构极性的研究. 物理学报,
1966, 22(7): 831-835.
doi: 10.7498/aps.22.831
|
[13] |
冯锡淇, 骆宾章, 唐福娣, 张雁行, 洪福根, 谭浩然. 用范德保法测量碳化硅的电阻率和霍耳效应. 物理学报,
1966, 22(9): 967-975.
doi: 10.7498/aps.22.967
|
[14] |
郭常霖. 碳化硅的多型性. 物理学报,
1965, 21(6): 1089-1104.
doi: 10.7498/aps.21.1089
|
[15] |
王本民, 田克温, 曹国斌. 碳化硅纤维的气化性能. 物理学报,
1964, 20(3): 287-288.
doi: 10.7498/aps.20.287
|
[16] |
唐璞山, 贺明霞, 陈佐禹, 王楚. 用面垒探测器测定n型硅中少数载流子的扩散长度. 物理学报,
1963, 19(7): 448-455.
doi: 10.7498/aps.19.448
|
[17] |
庄蔚华, 潘贵生. 用触针下分布电阻的光电导衰退测量锗和硅中少数载流子的寿命. 物理学报,
1963, 19(3): 191-201.
doi: 10.7498/aps.19.191
|
[18] |
王守武. 用触针下分布电阻的光电导衰退来测量半导体中少数载流子的寿命. 物理学报,
1963, 19(3): 176-190.
doi: 10.7498/aps.19.176
|
[19] |
物理系金属物理教研室. 摩擦磨损物理的若干问题. 物理学报,
1959, 15(3): 145-156.
doi: 10.7498/aps.15.145
|
[20] |
胡海昌. 横观各向同性的半无限弹性体的若干问题. 物理学报,
1954, 10(3): 239-258.
doi: 10.7498/aps.10.239
|