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ECR-PECVD制备Si3N4薄膜沉积工艺的研究

陈俊芳 吴先球 王德秋 丁振峰 任兆杏

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ECR-PECVD制备Si3N4薄膜沉积工艺的研究

陈俊芳, 吴先球, 王德秋, 丁振峰, 任兆杏

INVESTIGATION ON THE DEPOSITION PROCESS OF SILICON NITRIDE THIN FILM PREPARED BY ECR-PECVD

CHEN JUN-FANG, WU XIAN-QIU, WANG DE-QIU, DING ZHEN-FENG, REN ZHAO-XING
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出版历程
  • 收稿日期:  1998-08-25
  • 刊出日期:  1999-07-20

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