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改性光刻胶制备纳米压印模版

陈雷明 郭艳峰 郭 熹 唐为华

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改性光刻胶制备纳米压印模版

陈雷明, 郭艳峰, 郭 熹, 唐为华

Molds for nanoimprinting made by modified photoresist

Chen Lei-Ming, Guo Yan-Feng, Guo Xi, Tang Wei-Hua
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出版历程
  • 收稿日期:  2006-01-23
  • 修回日期:  2006-08-10
  • 刊出日期:  2006-06-05

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