HW-MWECR-CVD法制备氢化微晶硅薄膜及其微结构研究
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物理学报  2006, Vol. 55 Issue (11): 6147-6151
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HW-MWECR-CVD法制备氢化微晶硅薄膜及其微结构研究
朱秀红1, 陈光华1, 丁 毅2, 贺德衍3, 刘国汉4
(1)北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室,北京 100022; (2)兰州大学物理科学与技术学院,兰州 730000; (3)兰州大学物理科学与技术学院,兰州 730000;北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室,北京 100022; (4)兰州大学物理科学与技术学院,兰州 730000;甘肃省科学院传感技术研究所,兰州 730000
Preparation and characterization of hydrogenated microcrystalline silicon films by HW-MWECR-CVD
Zhu Xiu-Hong1, Chen Guang-Hua1, Ding Yi2, He De-Yan3, Liu Guo-Han4
(1)北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室,北京 100022; (2)兰州大学物理科学与技术学院,兰州 730000; (3)兰州大学物理科学与技术学院,兰州 730000;北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室,北京 100022; (4)兰州大学物理科学与技术学院,兰州 730000;甘肃省科学院传感技术研究所,兰州 730000

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