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Si-SiO2界面的粗糙度

洪国光 黄炳忠 余玉贞

Si-SiO2界面的粗糙度

洪国光, 黄炳忠, 余玉贞
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出版历程
  • 收稿日期:  1985-11-04
  • 修回日期:  1986-12-18
  • 刊出日期:  2005-03-18

Si-SiO2界面的粗糙度

  • 1. (1)香港大学; (2)中山大学物理系
    基金项目: 

    中国科学院科学基金

摘要: 利用椭偏反射光谱不但验证了Si-SiO2界面是一祖糙面,而且在恰当的模拟形貌下,把这界面粗糙层等效为若干子层,用有效介质理论处理。分别得到各自的介电特性。通过多相椭偏光反射光谱的理论计算值ψcal,△cal与实验值ψexp,△exp的比较,把粗糙的高度H及相关长度L确定,把不同条件下制备的样品的粗糙度和它们的电气性能相对比,发现两者之间的趋势十分一致。同时发现,在界面上Si的介电常数具有轻度的各向异性。

English Abstract

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