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基于Si-rich SiNx/N-rich SiNy多层膜结构的量子点构筑及发光特性

宋捷 丁宏林 王祥 郭艳青 黄锐 王旦清 陈坤基 徐骏 李伟 马忠元

基于Si-rich SiNx/N-rich SiNy多层膜结构的量子点构筑及发光特性

宋捷, 丁宏林, 王祥, 郭艳青, 黄锐, 王旦清, 陈坤基, 徐骏, 李伟, 马忠元
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出版历程
  • 收稿日期:  2009-09-22
  • 修回日期:  2010-03-22
  • 刊出日期:  2010-04-05

基于Si-rich SiNx/N-rich SiNy多层膜结构的量子点构筑及发光特性

  • 1. (1)韩山师范学院物理与电子工程系,潮州 521041; (2)南京大学物理系,固体微结构物理国家重点实验室,南京 210093
    基金项目: 

    国家重点基础研究发展计划(批准号:2006CB932202,2007CB613401),国家自然科学基金(批准号:60806046)资助的课题.

摘要: 利用等离子体增强化学气相沉积法制备Si-rich SiNx/N-rich SiNy多层膜,分别使用热退火和激光辐照技术对多层膜进行退火,以构筑三维限制、尺寸可控、有序的硅纳米晶.实验结果表明,经退火后,纳米硅晶粒在Si-rich SiNx子层内形成,其尺寸可由Si-rich SiNx子层厚度调控.实验还发现,激光辐照技术相比于热退火能更有效地改善多层膜的微结构,提高多层膜的晶化率,以激光技术诱导晶化的Si-rich SiNx/N-rich SiNy多层膜作为有源层构建电致发光器件,在室温下观察到了增强的电致可见发光,并且发光效率较退火前提高了40%以上.

English Abstract

参考文献 (9)

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