搜索

文章查询

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

溅射制备Ta2O5薄膜的表面形貌与光学特性

狄国庆

溅射制备Ta2O5薄膜的表面形貌与光学特性

狄国庆
PDF
导出引用
导出核心图
  • 在室温条件下利用溅射Ta2O5靶材的方法制备了Ta2O5薄膜,并采用将薄膜两侧的反射率光谱进行比较的简便方法分析评估薄膜的光吸收,发现溅射制备薄膜的额外光吸收源是溅射引起的缺氧形成的,选择适当的溅射功率和含氧比例的工作气体能有效地消除这些缺陷、不用任何加温处理就可制备得到表面平坦和高致密度的高品质Ta2O5薄膜.
    • 基金项目: 江苏省高校自然科学重大基础研究项目(批准号:05KJA43006)资助的课题.
    [1]

    Mohammad M A, Morgan D V 1989 Phys. State A 115 213

    [2]

    Chanelere C, Autran J L, Devine R A B, Balland B 1998 J. Mater. Sci. and Enging. R22 269 Atanassova E, Paskaleva A 2007 J. Microelectronics Reliability 47 913 Rubio F, Albella J M, Martinz-Duart J M 1982 Thin Solid Films 90 405 Herrmann W C 1981 J. Vac. Sci. Technol. 18 1303 Tu Y K, Lin C C, Wang W S, Huang S L 1987 Proceedings of the SPIE 836 40 Xu C, Yao J K, Ma J Y, Jin Y X, Shao J D 2007 Chin. Opt. Lett. 5 727 Xu C, Li D W, Ma J Y, Jin Y X, Shao J D, Ma J Y, Jin Y X, Shao J D, Fan Z X 2008 Opt. Laser Technol. 40 545 Tien P K 1971 Appl. Opt. 10 2395 Hensier D H, Cuthbert J D, Martin R J, Tien P K 1971 Appl. Opt. 10 1037 Lo G Q, Kwong D L, Lee S 1992 Appl. Phys. 60 3286 Nishimura Y, Tokunaga K, Tsuji M 1993 Thin Solid Films 226 144 Porporati A, Roitti S, Sbaizero O 2003 J. European Ceramic Society 23 247 Demiryont H, Sites James R, Geib Kent 1985 Appl. Opt. 24 490 Marius G, Wilhelm H, Markus K T 2007 Thin Solid Films 516 136 Cevro M, Carter M 1995 Opt. Eng. 34 596 Pai Y H, Chou C C, Shieu F S 2008 Materials Chemistry and Physics 107 524 Riekkinen T, Molarius J 2003 Microelectron. Eng. 70 392 Huang T W, Lee H Y, Hsieh Y W, Lee C H 2002 J. Cryst. Growth 237 492 Reith T M, Ficalora P J 1983 J. Vac. Sci. Technol. A 1 1362 Paskaleva A, Atanassova E, Dimitrova T 2000 Vacuum 58 470 Gruger H, Kunath Ch, Kurth E, Sorge S, Pufe W, Pechstein T, 2004 Thin Solid Films 447/448 509 Spassov D, Atanassova E, Beshkov G 2000 Microelectronics Journal 31 653 Zhang J Y, Fang Q, Boyd I W 1999 Appl. Surf. Sci. 138 320 Pignolet A, Rao G M, Krupanidhi S B 1995 Thin Solid Films 258 230 Masse J P, Szymanowski H, Zabeida O, Amassian A, Klemberg-Sapieha J E, Martinu L 2006 Thin Solid Films 515 1674 Xu C, Xiao Q L, Ma J Y, Jin Y X, Shao J D, Fan Z X 2008 Appl. Surf. Sci. 254 6554 Zhou J C, Luo D T, Li Y Z, Liu Z 2009 Trans. Nonferrous Met. Soc. China 19 359 Zhang G Y, Xue Y Y, Guo P T, Wang H H, Ma Z J 2008 Piezoel Ectectrics and Acoustooptics 30 12(in Chinese) [张光勇、 薛亦渝、郭培涛、王汉华、马中杰 2008 压电与声光 30 12] Guo P T, Xue Y Y, Zhang G Y, Wang H H 2007 Vacuum 44 32(in Chinese) [郭培涛、薛亦渝、张光勇、王汉华、马中杰 2007 真空44 32] Azim O A, Abdel-Aziz M M, Yahia I S 2009 Appl. Surf. Sci. 255 4829 Lee C C, Chen H C, Jaing C C 2005 Appl. Opt. 44 2996 Rabady R, Avrutsky I 2005 Appl. Opt. 44 378 Lin Y C, Lu W Q 1990 Principle in Optical Films (Beijing: National Defense Industry Press) p101(in Chinese)[林永昌、卢维强 1990 光学薄膜原理(北京:国防工业出版社)第101页] Xu C, Qiang Y H, Zhu Y B, Zhai T T, Guo L T, Zhao Y L, Shao J D, Fan Z X 2010 Vacuum doi:10.1016/j.vacuum.2010.02.009

  • [1]

    Mohammad M A, Morgan D V 1989 Phys. State A 115 213

    [2]

    Chanelere C, Autran J L, Devine R A B, Balland B 1998 J. Mater. Sci. and Enging. R22 269 Atanassova E, Paskaleva A 2007 J. Microelectronics Reliability 47 913 Rubio F, Albella J M, Martinz-Duart J M 1982 Thin Solid Films 90 405 Herrmann W C 1981 J. Vac. Sci. Technol. 18 1303 Tu Y K, Lin C C, Wang W S, Huang S L 1987 Proceedings of the SPIE 836 40 Xu C, Yao J K, Ma J Y, Jin Y X, Shao J D 2007 Chin. Opt. Lett. 5 727 Xu C, Li D W, Ma J Y, Jin Y X, Shao J D, Ma J Y, Jin Y X, Shao J D, Fan Z X 2008 Opt. Laser Technol. 40 545 Tien P K 1971 Appl. Opt. 10 2395 Hensier D H, Cuthbert J D, Martin R J, Tien P K 1971 Appl. Opt. 10 1037 Lo G Q, Kwong D L, Lee S 1992 Appl. Phys. 60 3286 Nishimura Y, Tokunaga K, Tsuji M 1993 Thin Solid Films 226 144 Porporati A, Roitti S, Sbaizero O 2003 J. European Ceramic Society 23 247 Demiryont H, Sites James R, Geib Kent 1985 Appl. Opt. 24 490 Marius G, Wilhelm H, Markus K T 2007 Thin Solid Films 516 136 Cevro M, Carter M 1995 Opt. Eng. 34 596 Pai Y H, Chou C C, Shieu F S 2008 Materials Chemistry and Physics 107 524 Riekkinen T, Molarius J 2003 Microelectron. Eng. 70 392 Huang T W, Lee H Y, Hsieh Y W, Lee C H 2002 J. Cryst. Growth 237 492 Reith T M, Ficalora P J 1983 J. Vac. Sci. Technol. A 1 1362 Paskaleva A, Atanassova E, Dimitrova T 2000 Vacuum 58 470 Gruger H, Kunath Ch, Kurth E, Sorge S, Pufe W, Pechstein T, 2004 Thin Solid Films 447/448 509 Spassov D, Atanassova E, Beshkov G 2000 Microelectronics Journal 31 653 Zhang J Y, Fang Q, Boyd I W 1999 Appl. Surf. Sci. 138 320 Pignolet A, Rao G M, Krupanidhi S B 1995 Thin Solid Films 258 230 Masse J P, Szymanowski H, Zabeida O, Amassian A, Klemberg-Sapieha J E, Martinu L 2006 Thin Solid Films 515 1674 Xu C, Xiao Q L, Ma J Y, Jin Y X, Shao J D, Fan Z X 2008 Appl. Surf. Sci. 254 6554 Zhou J C, Luo D T, Li Y Z, Liu Z 2009 Trans. Nonferrous Met. Soc. China 19 359 Zhang G Y, Xue Y Y, Guo P T, Wang H H, Ma Z J 2008 Piezoel Ectectrics and Acoustooptics 30 12(in Chinese) [张光勇、 薛亦渝、郭培涛、王汉华、马中杰 2008 压电与声光 30 12] Guo P T, Xue Y Y, Zhang G Y, Wang H H 2007 Vacuum 44 32(in Chinese) [郭培涛、薛亦渝、张光勇、王汉华、马中杰 2007 真空44 32] Azim O A, Abdel-Aziz M M, Yahia I S 2009 Appl. Surf. Sci. 255 4829 Lee C C, Chen H C, Jaing C C 2005 Appl. Opt. 44 2996 Rabady R, Avrutsky I 2005 Appl. Opt. 44 378 Lin Y C, Lu W Q 1990 Principle in Optical Films (Beijing: National Defense Industry Press) p101(in Chinese)[林永昌、卢维强 1990 光学薄膜原理(北京:国防工业出版社)第101页] Xu C, Qiang Y H, Zhu Y B, Zhai T T, Guo L T, Zhao Y L, Shao J D, Fan Z X 2010 Vacuum doi:10.1016/j.vacuum.2010.02.009

  • [1] 曹月华, 狄国庆. 磁控溅射制备Y2O3-TiO2薄膜形貌的研究. 物理学报, 2011, 60(3): 037702. doi: 10.7498/aps.60.037702
    [2] 刘志文, 谷建峰, 孙成伟, 张庆瑜. 磁控溅射ZnO薄膜的成核机制及表面形貌演化动力学研究. 物理学报, 2006, 55(4): 1965-1973. doi: 10.7498/aps.55.1965
    [3] 张玲, 何智兵, 廖国, 谌家军, 许华, 李俊. B掺杂对Ti薄膜结构与性能的影响. 物理学报, 2012, 61(18): 186803. doi: 10.7498/aps.61.186803
    [4] 崔永锋, 袁志好. 表面修饰的二氧化钛纳米材料的结构相变和光吸收性质. 物理学报, 2006, 55(10): 5172-5177. doi: 10.7498/aps.55.5172
    [5]
    1. 翟顺成, 郭平, 郑继明, 赵普举, 索兵兵, 万云, 
    第一性原理研究O和S掺杂的石墨相氮化碳(g-C3N4)6量子点电子结构和光吸收性质. 物理学报, 2017, 66(18): 187102. doi: 10.7498/aps.66.187102
    [6] 丁万昱, 徐军, 陆文琪, 邓新绿, 董闯. 微波ECR磁控溅射制备SiNx薄膜的XPS结构研究. 物理学报, 2009, 58(6): 4109-4116. doi: 10.7498/aps.58.4109
    [7] 牟季美, 蔡维理, 许彦旗, 王银海. 纳米Cu/Al2O3组装体模板合成与光吸收. 物理学报, 2001, 50(9): 1751-1755. doi: 10.7498/aps.50.1751
    [8] 梁静秋, 梁中翥, 朱万彬, 苏法刚. 光辐射吸收材料表面形貌与吸收率关系研究. 物理学报, 2011, 60(5): 057802. doi: 10.7498/aps.60.057802
    [9] 景蔚萱, 王兵, 牛玲玲, 齐含, 蒋庄德, 陈路加, 周帆. ZnO纳米线薄膜的合成参数、表面形貌和接触角关系研究. 物理学报, 2013, 62(21): 218102. doi: 10.7498/aps.62.218102
    [10] 周小莉, 杜丕一. 磁控溅射法制备的CaCu3Ti4O12薄膜. 物理学报, 2005, 54(4): 1809-1813. doi: 10.7498/aps.54.1809
    [11] 李林娜, 陈新亮, 王斐, 孙建, 张德坤, 耿新华, 赵颖. H2 气对脉冲磁控溅射铝掺杂氧化锌薄膜性能的影响. 物理学报, 2011, 60(6): 067304. doi: 10.7498/aps.60.067304
    [12] 张传军, 邬云骅, 曹鸿, 高艳卿, 赵守仁, 王善力, 褚君浩. 不同衬底和CdCl2退火对磁控溅射CdS薄膜性能的影响. 物理学报, 2013, 62(15): 158107. doi: 10.7498/aps.62.158107
    [13] 佟国香, 李毅, 王锋, 黄毅泽, 方宝英, 王晓华, 朱慧群, 梁倩, 严梦, 覃源, 丁杰, 陈少娟, 陈建坤, 郑鸿柱, 袁文瑞. 磁控溅射制备W掺杂VO2/FTO复合薄膜及其性能分析. 物理学报, 2013, 62(20): 208102. doi: 10.7498/aps.62.208102
    [14] 马平, 刘乐园, 张升原, 王昕, 谢飞翔, 邓鹏, 聂瑞娟, 王守证, 戴远东, 王福仁. 直流磁控溅射一步法原位制备MgB2超导薄膜. 物理学报, 2002, 51(2): 406-409. doi: 10.7498/aps.51.406
    [15] 张琦锋, 侯士敏, 张耿民, 刘惟敏, 薛增泉, 吴锦雷. Ag-BaO薄膜在电场作用下的可见——近红外波段光学吸收特性. 物理学报, 2001, 50(3): 561-565. doi: 10.7498/aps.50.561
    [16] 潘宵, 鞠焕鑫, 冯雪飞, 范其瑭, 王嘉兴, 杨耀文, 朱俊发. F8BT薄膜表面形貌及与Al形成界面的电子结构和反应. 物理学报, 2015, 64(7): 077304. doi: 10.7498/aps.64.077304
    [17] 白宣羽, 徐可为, 汪 渊. 基于小波变换Cu-W薄膜表面形貌表征与硬度值分散性评价. 物理学报, 2004, 53(7): 2281-2286. doi: 10.7498/aps.53.2281
    [18] 丁万昱, 徐 军, 李艳琴, 朴 勇, 高 鹏, 邓新绿, 董 闯. 微波ECR等离子体增强磁控溅射制备SiNx薄膜及其性能分析. 物理学报, 2006, 55(3): 1363-1368. doi: 10.7498/aps.55.1363
    [19] 张 辉, 刘应书, 刘文海, 王宝义, 魏 龙. 基片温度与氧分压对磁控溅射制备氧化钒薄膜的影响. 物理学报, 2007, 56(12): 7255-7261. doi: 10.7498/aps.56.7255
    [20] 刘 峰, 孟月东, 任兆杏, 舒兴胜. 感应耦合等离子体增强射频磁控溅射沉积ZrN薄膜及其性能研究. 物理学报, 2008, 57(3): 1796-1801. doi: 10.7498/aps.57.1796
  • 引用本文:
    Citation:
计量
  • 文章访问数:  3270
  • PDF下载量:  2177
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2010-04-19
  • 修回日期:  2010-05-31
  • 刊出日期:  2011-03-15

溅射制备Ta2O5薄膜的表面形貌与光学特性

  • 1. 薄膜材料江苏省重点实验室,苏州大学物理科学与技术学院,苏州 215006
    基金项目: 

    江苏省高校自然科学重大基础研究项目(批准号:05KJA43006)资助的课题.

摘要: 在室温条件下利用溅射Ta2O5靶材的方法制备了Ta2O5薄膜,并采用将薄膜两侧的反射率光谱进行比较的简便方法分析评估薄膜的光吸收,发现溅射制备薄膜的额外光吸收源是溅射引起的缺氧形成的,选择适当的溅射功率和含氧比例的工作气体能有效地消除这些缺陷、不用任何加温处理就可制备得到表面平坦和高致密度的高品质Ta2O5薄膜.

English Abstract

参考文献 (2)

目录

    /

    返回文章
    返回