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直流弧光放电化学气相沉积(CVD)法制备金刚石薄膜及其等离子体的光发射谱原位测量

蒋翔六 张仿清 张亚非 杨映虎 李敬起 陈光华

直流弧光放电化学气相沉积(CVD)法制备金刚石薄膜及其等离子体的光发射谱原位测量

蒋翔六, 张仿清, 张亚非, 杨映虎, 李敬起, 陈光华
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出版历程
  • 收稿日期:  1990-02-23
  • 刊出日期:  1990-06-05

直流弧光放电化学气相沉积(CVD)法制备金刚石薄膜及其等离子体的光发射谱原位测量

  • 1. (1)北京市科学技术研究院,北京,100044; (2)兰州大学物理系,兰州,730001

摘要: 应用直流弧光放电分解CH4和H2混合气体成功地实现了高速生长多晶金刚石膜,应用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、Raman谱仪对所得样品进行检测和分析,为了弄清楚金刚石膜的生长机理,在实际生长环境下“原位”测量了不同条件下直流弧光等离子体的光发射谱,结果发现:高速生长金刚石膜的关键是该气相反应中有大量的原子H存在。

English Abstract

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