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脉冲高能量密度等离子体法类金刚石膜的制备及分析

杨武保 范松华 刘赤子 张谷令 王久丽 杨思泽

脉冲高能量密度等离子体法类金刚石膜的制备及分析

杨武保, 范松华, 刘赤子, 张谷令, 王久丽, 杨思泽
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出版历程
  • 收稿日期:  2002-02-06
  • 修回日期:  2002-03-11
  • 刊出日期:  2005-04-03

脉冲高能量密度等离子体法类金刚石膜的制备及分析

  • 1. 中国科学院物理研究所,北京 100080
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:59871060)资助的课题.

摘要: 利用脉冲高能量密度等离子体法在光学玻璃衬底上、在室温下成功的制备了光滑、致密、均匀的纳米类金刚石膜.工艺研究表明:放电电压和放电距离以及工作气体种类对纳米类金刚石膜的沉积起着关键作用.利用拉曼光谱、扫描电镜以及电子能量损失谱分析薄膜的形态结构表明:薄膜具有典型的类金刚石特征;纳米类金刚石膜的晶粒尺寸小于20nm甚至为非晶态;类金刚石膜中含有一定量的氮原子,随着沉积能量的升高,氮的含量增大.纳米类金刚石膜的薄膜电阻超过109Ω/cm2.对放电溅射过程进行了理论分析,结果与工艺研究的结论吻合.

English Abstract

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