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TiSi2薄膜形成中扩散标记的研究

胡仁元

TiSi2薄膜形成中扩散标记的研究

胡仁元
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出版历程
  • 收稿日期:  1986-11-10
  • 刊出日期:  1987-06-05

TiSi2薄膜形成中扩散标记的研究

  • 1. 北京师范大学低能核物理研究所
    基金项目: 

    国家自然科学基金

摘要: 用Xe离子注入作扩散标记,确定了TiSi2薄膜形成过程中主要扩散元素是Si。应用Kidson和Tu推导的方程根据试验结果计算了600℃退火TiSi2形成中Si和Ti的扩散系数。

English Abstract

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