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电离辐射对部分耗尽绝缘体上硅器件低频噪声特性的影响

刘远 陈海波 何玉娟 王信 岳龙 恩云飞 刘默寒

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电离辐射对部分耗尽绝缘体上硅器件低频噪声特性的影响

刘远, 陈海波, 何玉娟, 王信, 岳龙, 恩云飞, 刘默寒

Radiation effects on the low frequency noise in partially depleted silicon on insulator transistors

Liu Yuan, Chen Hai-Bo, He Yu-Juan, Wang Xin, Yue Long, En Yun-Fei, Liu Mo-Han
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  • 本文针对辐射前后部分耗尽结构绝缘体上硅(SOI)器件的电学特性与低频噪声特性开展试验研究. 受辐射诱生埋氧化层固定电荷与界面态的影响, 当辐射总剂量达到1 M rad(Si) (1 rad = 10-2 Gy)条件下, SOI器件背栅阈值电压从44.72 V 减小至12.88 V、表面电子有效迁移率从473.7 cm2/V·s降低至419.8 cm2/V· s、亚阈斜率从2.47 V/dec增加至3.93 V/dec; 基于辐射前后亚阈斜率及阈值电压的变化, 可提取得到辐射诱生界面态与氧化层固定电荷密度分别为5.33×1011 cm- 2与2.36×1012 cm-2. 受辐射在埋氧化层-硅界面处诱生边界陷阱、氧化层固定电荷与界面态的影响, 辐射后埋氧化层-硅界面处电子被陷阱俘获/释放的行为加剧, 造成SOI 器件背栅平带电压噪声功率谱密度由7×10- 10 V2·Hz-1增加至1.8×10-9 V2 ·Hz-1; 基于载流子数随机涨落模型可提取得到辐射前后SOI器件埋氧化层界面附近缺陷态密度之和约为1.42×1017 cm-3·eV-1和3.66×1017 cm-3·eV-1. 考虑隧穿削弱因子、隧穿距离与时间常数之间关系, 本文计算得到辐射前后埋氧化层内陷阱电荷密度随空间分布的变化.
    The transfer characteristics and low-frequency noise behavior of partially depleted silicon on insulator n-channel metal-oxide-semiconductor transistors after γ-ray irradiation up to a total dose of 1M rad (Si) have been investigated in this paper. Due to the radiation-induced positive buried-oxide trapped charges and the interface traps, the back gate threshold voltage decreases from 44.72 to 12.88 V, and the electron field effect on mobility decreases from 473.7 to 419.8 cm2/V·s; while the sub-threshold swing increases from 2.47 to 3.93 V/dec. Based on the measurements of sub-threshold swing and the back gate threshold voltage, the variations of extracted radiation-induced buried oxide trapped charge and interface trap densities, are about 2.36×1012 cm-2 and 5.33×1011 cm-2 respectively. In addition, the normalized back gate flat-band voltage noise power spectral density is a sensitive function of radiation-induced buried oxide trapped charges and interface traps, which increases from 7×10-10 V2·Hz-1 to 1.8×10- 9 V2·Hz-1. According to the carrier number fluctuation model, the extracted trap density near the interface between channel and buried oxide increases from 1.42×1017 to 3.66×1017 cm- 3·eV-1. By considering the tunneling attenuation coefficient of the electron wave function and the tunneling depth of the electron in the buried oxide, the spatial distribution of trapped charges in the buried oxide before and after radiation are calculated and discussed.
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号: 61204112, 61204116)、中国博士后科学基金(批准号: 2012M521628) 和SOI 研发中心基金(批准号:62401110320) 资助的课题.
    • Funds: Project supported by the National Natural Science Foundation of China (Grant Nos. 61204112, 61204116), the China Postdoctoral Science Foundation (Grant No.2012M521628), and the SOI Research Institute Foundation of China (Grant No. 62401110320).
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出版历程
  • 收稿日期:  2014-09-23
  • 修回日期:  2014-11-09
  • 刊出日期:  2015-04-05

电离辐射对部分耗尽绝缘体上硅器件低频噪声特性的影响

  • 1. 工业和信息化部电子第五研究所, 电子元器件可靠性物理及其应用技术国家重点实验室, 广州 510610;
  • 2. 中国电子科技集团公司第五十八研究所, 无锡 214035;
  • 3. 中国科学院新疆理化技术研究所, 乌鲁木齐 830011
    基金项目: 国家自然科学基金(批准号: 61204112, 61204116)、中国博士后科学基金(批准号: 2012M521628) 和SOI 研发中心基金(批准号:62401110320) 资助的课题.

摘要: 本文针对辐射前后部分耗尽结构绝缘体上硅(SOI)器件的电学特性与低频噪声特性开展试验研究. 受辐射诱生埋氧化层固定电荷与界面态的影响, 当辐射总剂量达到1 M rad(Si) (1 rad = 10-2 Gy)条件下, SOI器件背栅阈值电压从44.72 V 减小至12.88 V、表面电子有效迁移率从473.7 cm2/V·s降低至419.8 cm2/V· s、亚阈斜率从2.47 V/dec增加至3.93 V/dec; 基于辐射前后亚阈斜率及阈值电压的变化, 可提取得到辐射诱生界面态与氧化层固定电荷密度分别为5.33×1011 cm- 2与2.36×1012 cm-2. 受辐射在埋氧化层-硅界面处诱生边界陷阱、氧化层固定电荷与界面态的影响, 辐射后埋氧化层-硅界面处电子被陷阱俘获/释放的行为加剧, 造成SOI 器件背栅平带电压噪声功率谱密度由7×10- 10 V2·Hz-1增加至1.8×10-9 V2 ·Hz-1; 基于载流子数随机涨落模型可提取得到辐射前后SOI器件埋氧化层界面附近缺陷态密度之和约为1.42×1017 cm-3·eV-1和3.66×1017 cm-3·eV-1. 考虑隧穿削弱因子、隧穿距离与时间常数之间关系, 本文计算得到辐射前后埋氧化层内陷阱电荷密度随空间分布的变化.

English Abstract

参考文献 (18)

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