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基于等离子体增强化学气相沉积技术的光电子器件多层抗反膜的设计和制作

袁贺 孙长征 徐建明 武庆 熊兵 罗毅

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基于等离子体增强化学气相沉积技术的光电子器件多层抗反膜的设计和制作

袁贺, 孙长征, 徐建明, 武庆, 熊兵, 罗毅

Design and fabrication of multilayer antireflection coating for optoelectronic devices by plasma enhanced chemical vapor deposition

Yuan He, Sun Chang-Zheng, Xu Jian-Ming, Wu Qing, Xiong Bing, Luo Yi
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出版历程
  • 收稿日期:  2009-08-26
  • 修回日期:  2010-02-03
  • 刊出日期:  2010-05-05

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