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等离子体增强化学气相沉积法制备立方氮化硼薄膜过程中的表面生长机理

杨杭生

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等离子体增强化学气相沉积法制备立方氮化硼薄膜过程中的表面生长机理

杨杭生

Surface growth mechanism of cubic boron nitride thin films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Yang Hang-Sheng
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出版历程
  • 收稿日期:  2006-01-19
  • 修回日期:  2006-03-23
  • 刊出日期:  2006-04-05

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