高压射频等离子体增强化学气相沉积制备高效率硅薄膜电池的若干关键问题研究
物理学报
引用检索 快速检索
物理学报  2012, Vol. 61 Issue (5): 058403     doi:10.7498/aps.61.058403
物理学交叉学科及有关科学技术领域 当期目录| 过刊浏览| 高级检索     
高压射频等离子体增强化学气相沉积制备高效率硅薄膜电池的若干关键问题研究
侯国付, 薛俊明, 袁育杰, 张晓丹, 孙建, 陈新亮, 耿新华, 赵颖
南开大学光电子薄膜器件与技术研究所, 光电信息技术科学教育部重点实验室, 光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室, 天津 300071
Key issues for high-efficiency silicon thin film solar cells prepared by RF-PECVD under high-pressure-depletion conditions
Hou Guo-Fu, Xue Jun-Ming, Yuan Yu-Jie, Zhang Xiao-Dan, Sun Jian, Chen Xin-Liang, Geng Xin-Hua, Zhao Ying
Institute of Photo-electronics Thin Film Devices and Technique of Nankai University, Key Laboratory of Photo-electronics Thin Film Devices and Technique of Tianjin, Key Laboratory of Photo-electronic Information Science and Technology of Ministry of Education (Nankai University), Tianjin 300071, China

版权所有 ©  物理学报
地址:北京市603信箱,《物理学报》编辑部 邮编:100190
电话:010-82649294,82649829,82649863   E-mail:apsoffice@iphy.ac.cn
网络系统维护电话:010-62662699-1; 技术支持邮箱 linjl@magtech.com.cn