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溅射功率对金属锰膜光学性质的影响

唐华杰 张晋敏 金浩 邵飞 胡维前 谢泉

溅射功率对金属锰膜光学性质的影响

唐华杰, 张晋敏, 金浩, 邵飞, 胡维前, 谢泉
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  • 采用磁控溅射方法在Si(111)基片上制备金属锰膜,用椭圆偏振光谱在入射光子能量为2.04.0 eV范围内研究了溅射功率对薄膜光学性质的影响. 利用德鲁得-洛伦兹色散模型对椭偏数据进行拟合,结果表明在测量范围内随溅射功率增加薄膜的折射率减小;消光系数随入射光子能量增加先增加后减小,在3.0 eV附近处出现极大值,并且极大值所处的位置随溅射功率增加而向低能方向移动,这主要与溅射沉积的锰薄膜的质量有关,且随溅射功率的增加薄膜的消光系数逐渐趋近于金属锰的数值. 研究结果还表明溅射功率的增加减少了薄膜中的空隙,有利于薄膜的生长.
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号:61264004)、贵州省自然科学基金(批准号:黔科合J字[2013]2119)、贵州省优秀教育科技人才省长基金(批准号:黔省专合字[2011]40)、贵州省教育厅125重大科技专项项目(批准号:黔教育合重大专项字[2012]003)、贵州省科技创新人才团队建设项目(批准号:黔科合人才团队(2011)4002)和贵州省科技攻关项目(批准号:黔科合GY字(2011)3015)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2013-09-03
  • 修回日期:  2013-09-28
  • 刊出日期:  2013-12-05

溅射功率对金属锰膜光学性质的影响

  • 1. 贵州大学电子信息学院, 贵州大学新型光电子材料与技术研究所, 贵阳 550025
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:61264004)、贵州省自然科学基金(批准号:黔科合J字[2013]2119)、贵州省优秀教育科技人才省长基金(批准号:黔省专合字[2011]40)、贵州省教育厅125重大科技专项项目(批准号:黔教育合重大专项字[2012]003)、贵州省科技创新人才团队建设项目(批准号:黔科合人才团队(2011)4002)和贵州省科技攻关项目(批准号:黔科合GY字(2011)3015)资助的课题.

摘要: 采用磁控溅射方法在Si(111)基片上制备金属锰膜,用椭圆偏振光谱在入射光子能量为2.04.0 eV范围内研究了溅射功率对薄膜光学性质的影响. 利用德鲁得-洛伦兹色散模型对椭偏数据进行拟合,结果表明在测量范围内随溅射功率增加薄膜的折射率减小;消光系数随入射光子能量增加先增加后减小,在3.0 eV附近处出现极大值,并且极大值所处的位置随溅射功率增加而向低能方向移动,这主要与溅射沉积的锰薄膜的质量有关,且随溅射功率的增加薄膜的消光系数逐渐趋近于金属锰的数值. 研究结果还表明溅射功率的增加减少了薄膜中的空隙,有利于薄膜的生长.

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